[发明专利]一种光纤，其制备方法及其光纤光栅阵列

权利要求书

1.一种光纤，所述光纤包括纤芯、包层以及设置于包层表面的外涂层，其特征在于，所述外涂层的材料为紫外光透明材料。

2.根据权利要求1所述的光纤，其特征在于，所述紫外光透明材料的紫外光透过率大于50％，

进一步优选的，所述紫外光透明材料对光栅刻写用紫外光的紫外光透过率为30％～70％。

3.根据权利要求1所述的光纤，其特征在于，所述紫外光透明材料为氟碳树脂，优选乙烯-四氟乙烯共聚物、含氟丙烯酸树脂、聚偏氟乙烯、含氟烯烃和乙烯基醚的共聚树脂中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的光纤，其特征在于，所述外涂层的厚度为20～100μm。

5.一种光纤的制备方法，其特征在于，至少包括以下步骤：

制备得到具有纤芯和包层的裸光纤；

在所述裸光纤表面涂覆紫外光透明材料并固化，形成外涂层，得到所述光纤。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述紫外光透明材料的紫外光透过率大于50％，

进一步优选的，所述紫外光透明材料对光栅刻写用紫外光的紫外光透过率为30％～70％。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述制备得到具有纤芯和包层的裸光纤的方法包括，将光纤预制棒进行加热并拉丝，所述加热的温度为2000～3000℃。

8.一种光纤光栅阵列，其特征在于，所述光纤光栅阵列直接通过紫外光照射权利要求1～4任一项所述的光纤表面进行刻写制备得到。

9.根据权利要求8所述的光纤光栅阵列，其特征在于，所述刻写形成的光栅之间的间隔相等或不等；不同所述光栅的中心波长相同或不同。

10.根据权利要求8所述的光纤光栅阵列，其特征在于，所述光纤光栅阵列的反射率为0.1％～80％。