[发明专利]接近式曝光装置及其曝光方法

权利要求书

1.一种接近式曝光装置，包括：

装载台；

保持器，安装到所述装载台上，用于保持所述掩模板；

真空罩，设置在所述掩模板的上方，用于在所述掩模板的上方形成密封空间；以及

泵送机构机构，连接到所述真空罩，以从所述真空罩抽吸空气，用于在所述掩模板的上方形成负压状态。

2.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其中，所述真空罩包括至少一个空气导入孔，所述至少一个空气导入孔用于向所述真空罩中引入外部空气。

3.根据权利要求2所述的接近式曝光装置，其中，所述空气导入孔上安装有调节阀门，所述调节阀门构造成调节通过所述空气导入孔流入的外部空气的流量。

4.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其中，所述真空罩固定在所述装载台上。

5.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其中，所述装载台的下方设置有密封结构，用于在装载台和掩模板之间形成密封状态。

6.根据权利要求1-5任一项所述的接近式曝光装置，其中，所述接近式曝光装置还包括驱动机构，用于驱动所述保持器上下移动。

7.根据权利要求6所述的接近式曝光装置，其中，所述驱动机构为液压式驱动机构，包括：

活塞杆，所述活塞杆连接至所述保持器，以驱动所述保持器上下移动；

气缸体，容纳所述活塞杆和液压油；和

电液伺服阀，所述电液伺服阀通过第一液压油管道和第二液压油管道连接到汽缸体，并通过控制液压油通过第一液压油管道和第二液压油管道进出汽缸体来控制所述活塞杆上下移动。

8.根据权利要求1-5任一项所述的接近式曝光装置，其中，所述接近式曝光装置还包括控制单元，所述控制单元用于控制所述泵送机构的泵送操作。

9.根据权利要求6所述的接近式曝光装置，其中，所述接近式曝光装置还包括控制单元，所述控制单元用于控制所述驱动机构的操作。

10.根据权利要求3所述的接近式曝光装置，其中，所述接近式曝光装置还包括控制单元，所述控制单元用于控制所述调节阀门的开口度。

11.根据权利要求8所述的接近式曝光装置，其中，所述接近式曝光装置还包括负压测量装置，用于测量所述真空罩内的负压的大小，并将测量结果发送给控制单元；和

所述控制单元根据所述负压测量装置的测量结果控制所述泵送机构的泵送操作。

12.一种使用权利要求1的接近式曝光装置的曝光方法，包括：

将掩模板装载在保持器上，并与待曝光基板对置；

利用泵送机构抽吸设置在所述掩模板的上方的真空罩中的空气，以在所述掩模板的上方形成负压状态；以及

通过所述掩模板对待曝光基板照射光线，以对所述待曝光基板进行曝光。

13.根据权利要求12所述的接近式曝光装置的曝光方法，其中，将掩模板装载在保持器上包括：

远离装载台移动所述保持器，以在所述保持器上方留出装载所述掩模板的空间；以及

利用所述空间将掩模板装载到保持器上。

14.根据权利要求12所述的接近式曝光装置的曝光方法，还包括：

在曝光完成后从所述保持器卸载所述掩模板，所述卸载包括：

对真空罩下方的密封空间去真空；

远离装载台移动所述保持器，以在所述保持器上方留出卸载掩模板的空间；以及

利用所述空间从所述保持器卸载所述掩模板。

15.根据权利要求12所述的接近式曝光装置的曝光方法，还包括：

在曝光的过程中，测量所述真空罩中的负压的大小，并根据测量结果调节所述真空罩中的负压至目标压力。