[发明专利]一种真空快速去除溶剂的装置及方法

权利要求书

1.一种真空快速去除溶剂的装置，可拆卸地与蒸镀设备连接，其特征在于包括壳体、密封盖、密封圈、真空挡板阀以及带有控制阀的细管道，所述壳体设有一浅孔，所述浅孔内设有至少三个用于支撑样品片的支撑脚，浅孔的内壁上设有一圈环形的台阶，所述密封圈支撑于所述台阶上，所述密封盖压盖于密封圈上与浅孔的底部形成真空腔室，浅孔的底部开设通孔，所述真空挡板阀通过与所述通孔相连实现与真空腔室的连通，浅孔的的侧壁上开设有排气孔，所述细管道通过与所述排气孔相连实现与真空腔室的连通；所述真空挡板阀通过不锈钢真空管道可拆卸地与蒸镀设备的真空机械泵连接。

2.根据权利要求1所述的真空快速去除溶剂的装置，其特征在于所述密封盖由钢结构的包边和高硼硅视镜玻璃体组成，所述包边包绕于所述高硼硅视镜玻璃体。

3.根据权利要求2所述的真空快速去除溶剂的装置，其特征在于所述高硼硅视镜玻璃体相对于密封圈的一侧设有弧形的凹陷曲面，形成凹坑。

4.根据权利要求3所述的真空快速去除溶剂的装置，其特征在于凹坑的外圈的长度与真空腔室的宽度相等。

5.根据权利要求1所述的真空快速去除溶剂的装置，其特征在于支撑脚呈直角状，总共为四个。

6.根据权利要求1所述的真空快速去除溶剂的装置，其特征在于所述不锈钢真空管道上设置有三通阀。

7.根据权利要求6所述的真空快速去除溶剂的装置，其特征在于所述三通阀通过真空卡箍固定于不锈钢真空管道。

8.根据权利要求1所述的真空快速去除溶剂的装置，其特征在于所述真空腔室内设置有电池。

9.如权利要求1-8任一项所述的真空快速去除溶剂的装置的真空快速去除溶剂方法，其特征在于包括如下步骤：

1)将真空挡板阀关闭，将细管道关闭，将蒸镀设备与真空挡板阀间的压强预先抽至20pa以下；

2)将样品片放于真空腔室中，并盖上密封盖；

3)快速开启真空挡板阀，等待8-12s后，打开细管道放气以平衡气压后取出样品片。