[发明专利]彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板

权利要求书

1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

在衬底基板上形成色阻层；

在形成有所述色阻层的衬底基板上形成转化层，所述转化层的厚度大于所述色阻层的厚度且所述转化层能够在预设光线照射下发生色彩转化，所述转化层由在黑矩阵胶中添加光催化剂或不透明的感光材料形成，或者，所述转化层由在透明的平坦层中加入光催化剂或透明的感光材料制成；

以所述预设光线照射所述转化层，使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，所述BM图案位于所述转化层靠近所述衬底基板的一侧。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述转化层由不透明材质制成，

所述以所述预设光线照射所述转化层，使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，包括：

以所述预设光线从所述转化层远离所述衬底基板的一侧照射所述转化层，使所述转化层远离所述衬底基板的一侧的第一预设厚度的膜层转变为透明的平坦层，所述第一预设厚度大于所述转化层的厚度与所述色阻层的厚度的差值。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述以所述预设光线从所述转化层远离所述衬底基板的一侧照射所述转化层，使所述转化层远离所述衬底基板的一侧的第一预设厚度的膜层转变为透明的平坦层，包括：

在所述转化层中不透明的膜层的厚度等于所述色阻层的厚度时，在所述转化层和所述预设光线的光源之间设置掩膜板，所述掩膜板用于阻挡所述预设光线照射到所述色阻层。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述预设光线为紫外线，所述转化层中包括光催化剂，所述光催化剂用于使所述转化层照射到所述紫外线的部分转化为透明状态。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述光催化剂包括二氧化钛、氧化锌和氧化锡中的至少一种。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述光催化剂在所述转化层中的质量分数为0.1％至10％。

7.根据权利要求4-6任一所述的方法，其特征在于，所述紫外线的波长为330微米至400微米，所述紫外线的照射时间为10分钟至40分钟。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述转化层由透明材质制成，

所述以所述预设光线照射所述转化层，使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，包括：

以所述预设光线从所述衬底基板远离所述色阻层的一侧照射所述转化层，使所述转化层靠近所述衬底基板的一侧的第二预设厚度的膜层转变为不透明的BM图案，所述第二预设厚度小于所述色阻层的厚度。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述以所述预设光线从所述衬底基板远离所述色阻层的一侧照射所述转化层，使所述转化层靠近所述衬底基板的一侧的第二预设厚度的膜层转变为不透明的BM图案之前，所述方法包括：

在所述预设光线的光源和所述衬底基板之间设置掩膜板，所述掩膜板用于阻挡所述预设光线照射到所述色阻层。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述预设光线为紫外线，所述转化层中包括光催化剂或透明的感光材料，所述光催化剂或所述透明的感光材料用于使所述转化层照射到所述紫外线的部分转化为不透明状态。

11.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板为权利要求1至10任一所述的方法制造而成的彩膜基板。

12.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括权利要求11所述的彩膜基板。