[发明专利]一种天锦章属植物组织培养的培养基及其方法

权利要求书

1.一种天锦章属植物组织培养的培养基，其特征在于，包括初代培养基、继代培养基和壮苗培养基；

所述初代培养基为：含有1.5mg/L KT、0.1mg/L NAA、0.05mg/L TDZ、30g/L蔗糖、7g/L琼脂的MS培养基，pH值为5.8～6.0；

所述继代培养基为：含有0.1mg/L KT、0.01mg/L TDZ、30g/L蔗糖、7g/L琼脂的MS培养基，pH值为5.8～6.0；

所述壮苗培养基为：含有7g/L琼脂和25g/L蔗糖的MS培养基，pH值为5.8～6.0；

所述天锦章 属植物为玛丽安、马丁、白安泽和红蛋。

2.一种天锦章属植物的组织培养方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：将天锦章属植物花箭接种到权利要求1所述培养基中的初代培养基先进行暗培养，得到愈伤组织；

步骤2：将愈伤组织转接到权利要求1所述培养基中的继代培养基进行继代培养，得到分化的小苗；

步骤3：将分化的小苗转接到权利要求1所述培养基中的壮苗培养基进行壮苗培养，得到组培苗；

所述天锦章 属植物为玛丽安、马丁、白安泽和红蛋。

3.根据权利要求2所述的组织培养方法，其特征在于，步骤1中所述天锦章属植物外植体接种前还包括：采集天锦章属植物花苞未展开的花箭，去除苞片，进行消毒处理，然后切成3-5cm的花箭小段。

4.根据权利要求3所述的组织培养方法，其特征在于，所述花箭的采收时间为5～6月，所述花箭的长度选取10-15cm。

5.根据权利要求3所述的组织培养方法，其特征在于，所述消毒处理具体为：取所述花箭小段用NaClO溶液清洗，然后用氯化汞溶液消毒，再用水清洗。

6.根据权利要求5所述的组织培养方法，其特征在于，所述NaClO溶液的质量百分浓度为0.1％；所述氯化汞溶液的质量百分浓度为0.1％，消毒时间为5min；所述水清洗的次数为5-6次，每次浸泡时间≥3min。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的组织培养方法，其特征在于，所述暗培养的培养条件为：培养温度为24～26℃，相对湿度为45％～50％。

8.根据权利要求2至6中任一项所述的组织培养方法，其特征在于，所述继代培养的培养条件为：光照周期为8～12h/d，光照强度为2500～3500lx，培养温度为24～26℃，相对湿度为45％～50％。

9.根据权利要求2至6中任一项所述的组织培养方法，其特征在于，所述壮苗培养的培养条件为：光照周期为8～12h/d，光照强度为2500～3500lx，培养温度为24～26℃，相对湿度为45％～50％。