[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是指一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

TFT-LCD(薄膜晶体管-液晶显示器)行业中，扭曲向列(Twisted Nematic，TN)型液晶显示器因其具有工艺简单、成熟、良率更高的优点，广泛应用于笔记本电脑、掌上终端等电子显示终端产品中。

在TN模式的液晶显示器中，公共电极线是由不透光的金属制成的，为了保证TN模式液晶显示器的开口率，需要将公共电极线设置的比较窄，而TN模式液晶显示器的存储电容是由公共电极线和像素电极之间的正对面积决定的，因此存储电容受限于开口率会比较低，导致TN模式的液晶显示器在电容耦合效应以及关态电流I_off的影响下可能出现Flicker(闪烁)和残影等不良。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够在不影响显示装置的开口率的情况下提高显示装置的存储电容，改善显示装置的显示效果。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种显示基板的制作方法，包括在衬底基板上形成公共电极线的步骤，形成所述公共电极线的步骤包括：

形成延伸方向相同的透明导电图形和金属图形，所述透明导电图形与所述金属图形相接触组成至少部分所述公共电极线，所述透明导电图形在所述衬底基板上的正投影具有超出所述金属图形在所述衬底基板上的正投影的部分。

进一步地，形成所述透明导电图形和所述金属图形包括：

在所述衬底基板上依次形成所述透明导电图形和所述金属图形，所述透明导电图形在所述衬底基板上的正投影与所述金属图形在所述衬底基板上的正投影部分重合；或

在所述衬底基板上依次形成所述金属图形和所述透明导电图形，所述透明导电图形在所述衬底基板上的正投影与所述金属图形在所述衬底基板上的正投影部分重合。

进一步地，形成所述透明导电图形和所述金属图形包括：

通过一次构图工艺同时形成所述透明导电图形和所述金属图形，所述金属图形在所述衬底基板上的正投影完全落入所述透明导电图形在所述衬底基板上的正投影内。

进一步地，所述通过一次构图工艺同时形成所述透明导电图形和所述金属图形包括：

依次形成透明导电层和金属层；

在所述金属层上涂覆光刻胶，利用半色调掩膜板或灰色调掩膜板对所述光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶完全保留区域、光刻胶部分保留区域和光刻胶未保留区域；

刻蚀掉光刻胶未保留区域的透明导电层和金属层，形成所述透明导电图形；

去除光刻胶部分保留区域的光刻胶；

刻蚀掉光刻胶部分保留区域的金属层，形成所述金属图形；

去除光刻胶完全保留区域的光刻胶。

进一步地，所述显示基板还包括薄膜晶体管的栅极和栅线，在形成所述透明导电图形和所述金属图形的同一次构图工艺中，还形成所述薄膜晶体管的栅极和栅线。

本发明实施例还提供了一种显示基板，包括位于衬底基板上的公共电极线，至少部分所述公共电极线由延伸方向相同的透明导电图形和金属图形组成，所述透明导电图形与所述金属图形相接触，且所述透明导电图形在所述衬底基板上的正投影具有超出所述金属图形在所述衬底基板上的正投影的部分。

进一步地，所述公共电极线包括层叠设置的所述透明导电图形和所述金属图形，所述透明导电图形在所述衬底基板上的正投影与所述金属图形在所述衬底基板上的正投影部分重合，所述金属图形覆盖所述透明导电图形的部分区域；或所述透明导电图形覆盖所述金属图形的部分区域。

进一步地，所述公共电极线包括所述金属图形和覆盖所述金属图形的所述透明导电图形，所述金属图形在所述衬底基板上的正投影完全落入所述透明导电图形在所述衬底基板上的正投影内；或

所述公共电极线包括所述透明导电图形和位于所述透明导电图形上的所述金属图形，所述金属图形在所述衬底基板上的正投影完全落入所述透明导电图形在所述衬底基板上的正投影内。

进一步地，所述公共电极线包括并排设置的所述金属图形和所述透明导电图形。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

本发明的实施例具有以下有益效果：