[发明专利]一种掩膜版、曝光方法及装置

说明书

本发明公开了一种掩膜版、曝光方法及装置。该掩膜版上包括掩模图形区域，还包括：设置于所述掩模图形区域周围的图形标记所述图形标记包括第一组和第二组，分别设置于所述掩模图形区域相对的两侧，所述第一组包括第二左标记和第三左标记，所述第二组包括第二右标记和第三右标记；且所述第二左标记大于第三右标记，所述第二右标记大于第三左标记。本发明实施例所述方案，通过设置图形标记，监控图形标记对应的光刻胶图形从而监控遮光挡板的位置是否异常来判断曝光是否正确。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤指一种掩膜版、曝光方法及装置。

背景技术

遮光挡板(Masking blade)是曝光机一个重要的硬件，其作用是遮挡掩膜版(mask)上不需要的区域，防止在曝光基板上的当前图形时，将附近图形区域的光刻胶曝掉。

但遮光挡板是通过机械驱动的，其驱动位置受机械因素影响，在生产中不可避免的出现偏差。当偏差超出允许范围时，会导致附近图形受到影响。这是生产中不可接受的异常。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种掩膜版、曝光方法及装置，能够检测遮光挡板的异常。

为了达到本发明目的，本发明实施例提供了一种掩膜版，所述掩膜版上包括掩模图形区域，其特征在于，还包括：设置于所述掩模图形区域周围的图形标记，所述图形标记包括第一组和第二组，分别设置于所述掩模图形区域相对的两侧，所述第一组包括第二左标记和第三左标记，所述第二组包括第二右标记和第三右标记，所述第二左标记大于第三右标记，所述第二右标记大于第三左标记，各图形标记的位置满足：

所述第二左标记沿第一方向平移到所述第三右标记所在位置时，完全覆盖所述第三右标记，所述第二右标记沿所述第一方向平移到所述第三左标记所在位置时，完全覆盖所述第三左标记，且第一方向上，所述第三左标记与所述掩模图形区域的距离大于所述第二左标记与所述掩模图形区域的距离，所述第三右标记与所述掩模图形区域的距离大于所述第二右标记与所述掩模图形区域的距离，所述第三左标记与所述第二左标记的距离等于所述第三右标记与所述第二右标记的距离；

所述第一方向为水平方向或垂直方向。

在本发明的一可选实施例中，所述第一组还包括第一左标记，所述第二组还包括第一右标记，满足：

所述第二左标记与所述掩模图形区域在所述第一方向上的距离大于所述第一左标记与所述掩模图形区域在所述第一方向上的距离；

所述第二右标记与所述掩模图形区域在所述第一方向上的距离大于所述第一右标记与所述掩模图形区域在所述第一方向上的距离。

在本发明的一可选实施例中，所述第二左标记和第二右标记大小形状相同，所述第一左标记、所述第三左标记、第一右标记、第三右标记大小形状相同。

在本发明的一可选实施例中，所述第一左标记和所述第一右标记对称，所述第二左标记和所述第二右标记对称，所述第三左标记和所述第三右标记对称，所述对称基于所述掩模图形区域的对称轴。

在本发明一实施例中，提供一种曝光方法，包括：

使用上述的掩膜版进行曝光得到基板上的小板，且曝光时满足；

曝光第一小板时，所述第二右标记在所述基板上对应第一曝光位置,所述第三右标记在所述基板上对应第二曝光位置，曝光所述第一小板相邻的第二小板时，所述第二左标记在所述基板上对应第三曝光位置，所述第三左标记在所述基板上对应第四曝光位置，所述第一曝光位置、第二曝光位置、第三曝光位置、第四曝光位置位于所述第一小板和所述第二小板之间，且：

所述第一曝光位置覆盖所述第四曝光位置，所述第三曝光位置覆盖所述第二曝光位置；