[发明专利]一种触摸屏及其制备方法在审
| 申请号： | 201710174595.6 | 申请日： | 2017-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN106873841A | 公开（公告）日： | 2017-06-20 |
| 发明（设计）人： | 李阳 | 申请（专利权）人： | 合肥仁德电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 合肥道正企智知识产权代理有限公司34130 | 代理人： | 张浩 |
| 地址： | 230000 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 触摸屏 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种触摸屏，包括玻璃基板，其特征在于，还包括依次层叠于所述玻璃基板上的第一防护层与第二防护层，所述第一防护层的材料包括聚丙烯、氧化铝、氧化钙、氧化钇，所述第二防护层的材料包括氟化钙晶体。
2.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述第一防护层的厚度为0.46-0.62mm。
3.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述第二防护层的厚度为0.42-0.58mm。
4.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述触摸屏的可见光透过率大于或等于98%。
5.根据权利要求1所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一，提供玻璃基板；
步骤二，在镀膜室内将玻璃基板的温度升高至150-180℃，真空度调节至0.2-0.4Pa，采用磁控溅射法在玻璃基材上镀上第一防护层；
步骤三，将镀膜室的温度升高至180-200℃，真空度调节至0.4-0.6Pa，采用磁控溅射法在第一防护层上镀上第二防护层。
6.根据权利要求5所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述步骤一需要对玻璃基板进行减薄操作。
7.根据权利要求5所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述步骤二中玻璃基板的运行速度为28-35mm/s。
8.根据权利要求5所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述步骤二玻璃基板与靶材的距离为18-22mm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥仁德电子科技有限公司，未经合肥仁德电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710174595.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：单片式触控面板结构及其制造方法
- 下一篇：应用图标的移动方法及移动装置
