[发明专利]显影废液的二次废液中四甲基氢氧化铵的回收方法

说明书

本发明公开了一种显影废液的二次废液中四甲基氢氧化铵的回收方法，包含一收集步骤、一第一调整步骤、一过滤步骤、一纯化步骤及一电解透析步骤。首先收集显影废液进行四甲基氢氧化铵回收后所产生的二次废液，并以酸液调整其酸碱值使得四甲基氢氧化铵离子与酸液形成四甲基铵盐水溶液，并让废光阻不溶于该二次废液中。接着该过滤步骤是过滤出废光阻而得到四甲基铵盐水溶液，再以一树脂塔纯化该四甲基铵盐水溶液中所含有的金属离子而得到四甲基铵盐水溶液。再进行该电解透析步骤使四甲基铵离子与相对离子分离而转化成四甲基氢氧化铵，而得到四甲基氢氧化铵水溶液。

技术领域

本发明是有关于一种显影废液的回收技术，特别是指一种显影废液的二次废液中四甲基氢氧化铵的回收方法。

背景技术

显影剂能将曝光显之光阻作成所预定的图案，广泛运用在集成电路与液晶面板的制造产业。以目前而言，以四甲基氢氧化铵(TMAH)溶液为主要的显影剂来源。

使用过的显影剂除了原本的显影剂成分之外，还会有被溶解的光阻、金属离子(例如，钠、铁及铝离子等等)、无机阴离子、有机阴离子、表面活性物质，以及悬浮颗粒等等。

在中国台湾公告第575796号「四甲基氢氧化铵显影液的回收系统及其方法」、第I366076「显影废液中回收四甲基氢氧化铵的方法」，以及公开第200615238号「显影废液的处理方法」等案件内，皆已揭露显影废液的回收处理方式。以第I366076「显影废液中回收四甲基氢氧化铵的方法」为例，其去光阻的方式是以纳米膜进行过滤，然而，当显影废液以该纳米膜进行过滤之后所产生的二次废液，除了含有较高浓度的废光阻之外，同时也含有四甲基氢氧化铵，其含量与原显影废液中的四甲基氢氧化铵相比，将近有5-20%。若将该二次废液排入废水处理系统中，除了造成回收率的降低之外，也衍生出废水处理系统仍须具有处理少量四甲基氢氧化铵的能力的问题。

一般而言，因纳米膜过滤显影废液时所排出的显影废液，也就是二次废液，该二次废液中仍含有四甲基氢氧化铵，但是废光阻的浓度会是原显影废液的5-20倍，因此不易将四甲基氢氧化铵回收。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明的一目的，即在提供一种可以克服前述问题的显影废液的二次废液中四甲基氢氧化铵的回收方法。

该回收方法至少包含以下步骤：一收集步骤、一第一调整步骤、一过滤步骤、一纯化步骤，及一电解透析步骤。该收集步骤是收集一显影废液进行四甲基氢氧化铵回收后所产生的二次废液。该第一调整步骤是以酸液调整该二次废液的酸碱值，使其pH值≤7，而使得该二次废液中的四甲基氢氧化铵离子与酸液形成四甲基铵盐水溶液，并使得废光阻不溶于该二次废液中。该过滤步骤是将调整过酸碱值的该二次废液进行过滤，以过滤出不溶于该二次废液的废光阻，而得到一不含有废光阻的四甲基铵盐水溶液。该纯化步骤是以一树脂塔纯化该四甲基铵盐水溶液中所含有的金属离子，而得到一不含有金属离子的四甲基铵盐水溶液。该电解透析步骤是使不含有金属离子的该四甲基铵盐水溶液中的四甲基铵离子与相对离子分离而转化成四甲基氢氧化铵，而得到一四甲基氢氧化铵水溶液。该浓度调配步骤是使该四甲基氢氧化铵水溶液的浓度在2wt%至25wt%之间。

本发明的另一技术手段，是在于上述的回收方法还包含一接续该过滤步骤之后的第二调整步骤，是以碱液调整该四甲基铵盐水溶液的酸碱值，使其pH值≥6。

本发明的又一技术手段，是在于上述的回收方法还包含一在该纯化步骤之前或之后的蒸馏步骤，是以减压蒸馏的方式将四甲基铵盐水溶液的水分去除，得到浓度较高的四甲基铵盐水溶液。

本发明的再一技术手段，是在于该酸液是盐酸、硫酸、硝酸、甲酸、醋酸、磷酸、碳酸之一或其组合。

本发明的另一技术手段，是在于该过滤步骤是以一过滤器进行过滤，该过滤器是传统滤心式过滤器、烛台式过滤器、离心式过滤器或具有括勺功能的薄膜式过滤器。