[发明专利]等离子体处理方法有效
申请号: | 201710173345.0 | 申请日: | 2017-03-22 |
公开(公告)号: | CN107221486B | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 大野久美子;辻本宏;永海幸一 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 处理 方法 | ||
1.一种在等离子体处理装置中执行的等离子体处理方法,其特征在于:
所述等离子体处理装置包括:
处理容器;
对所述处理容器内供给气体的气体供给系统;
第一电极和第二电极,该第一电极和第二电极以所述处理容器内的空间介于该第一电极和第二电极之间的方式设置;
第一高频电源,其输出用于供给到所述第一电极和所述第二电极之中的一个电极的等离子体生成用的第一高频;
第二高频电源,其输出用于供给到所述第二电极的离子引入用的第二高频;和
控制部,其控制所述气体供给系统、所述第一高频电源和所述第二高频电源,
在该等离子体处理方法中,执行各自包括第一阶段和第二阶段的多次循环,其中,在所述第一阶段,在所述处理容器内生成包含第一气体的第一处理气体的等离子体,所述第二阶段接着所述第一阶段,在所述第二阶段中,在所述处理容器内生成包含所述第一气体和添加在该第一气体中的第二气体的第二处理气体的等离子体,
在进行所述第一阶段的第一期间和接着该第一期间进行所述第二阶段的第二期间,将所述第一气体供给到所述处理容器内,将所述第一高频供给到所述一个电极,
在所述第二期间对所述第二电极供给所述第二高频,
所述第一期间的所述第二高频的功率被设定成比所述第二期间的所述第二高频的功率低的功率,
该等离子体处理方法包括:
根据所述控制部的控制,在比所述第二期间的开始时刻靠前第一时间差的量的输出开始时刻,开始来自所述气体供给系统的所述第二气体的输出的步骤;
根据所述控制部的控制,在所述第二期间的所述开始时刻,开始对所述第二电极供给所述第二高频的步骤;
根据所述控制部的控制,在所述第二期间中且比该第二期间的结束时刻靠前第二时间差的量的输出停止时刻,停止来自所述气体供给系统的所述第二气体的输出的步骤;和
根据所述控制部的控制,在所述第二期间的所述结束时刻,使所述第二高频的功率降低的步骤,
所述控制部,使用将从所述气体供给系统开始所述第二气体的输出的时刻起至所述第二气体被供给到所述处理容器内的时刻为止的延迟时间与所述第一气体的流量和所述第二气体的流量相关联的函数或者表,确定与方案中指定的所述第二阶段的所述第一气体的流量和所述第二气体的流量相关联的第一延迟时间,将该第一延迟时间初始地设定为所述第一时间差,
所述控制部,使用将从所述气体供给系统停止所述第二气体的输出的时刻起至所述第二气体向所述处理容器内的供给结束的时刻为止的延迟时间与所述第一气体的流量相关联的函数或者表,确定与所述方案中指定的所述第二阶段的所述第一气体的流量相关联的第二延迟时间,将该第二延迟时间初始地设定为所述第二时间差。
2.如权利要求1所述的等离子体处理方法,其特征在于:
所述等离子体处理装置还包括:
将所述一个电极和所述第一高频电源连接的第一供电线路;
将所述第二电极和所述第二高频电源连接的第二供电线路;
用于调节所述第一高频电源的负载阻抗的第一匹配器;
用于调节所述第二高频电源的负载阻抗的第二匹配器;和
运算部,其求取包括所述第一高频电源的负载阻抗、负载电阻和负载电抗以及所述第一高频的反射波系数之中任意者的参数,
在所述多次循环之中任意的循环的执行期间中的紧接着所述第二期间之前的所述输出开始时刻与该任意的循环的该执行期间中的该第二期间的所述开始时刻之间的期间,由所述运算部求出了超过第一阈值的所述参数的情况下,所述控制部使所述第一时间差减少求出超过该第一阈值的所述参数的时刻与所述任意的循环的所述执行期间中的所述第二期间的所述开始时刻之间的时间差的量。
3.如权利要求2所述的等离子体处理方法,其特征在于:
在所述多次循环之中任意的循环的执行期间中的紧接着所述第二期间之前的所述输出开始时刻与该任意的循环的该执行期间中的该第二期间的所述开始时刻之间的期间,没有由所述运算部求出超过所述第一阈值的所述参数的情况下,所述控制部使所述第一时间差增加规定时间量。
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