[发明专利]一种新型ZnO纳米片状结构涂层的制备方法

权利要求书

1.一种新型ZnO纳米片状结构涂层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一：使用溶胶凝胶法配制0.01mol/L～0.025mol/L的ZnO种子层溶胶；

步骤二：采用浸渍提拉法在ITO玻璃上拉膜制备出ZnO种子层薄膜，在250℃下的马弗炉中进行热处理；

步骤三：将步骤二中制备好的ZnO种子层薄膜在配置好的0.025mol/L～0.15mol/L的ZnO生长溶液中在75℃下水热生长；

步骤四：水热反应结束后，在步骤三ZnO生长溶液中在15℃～25℃环境下继续进行腐蚀反应一段时间后，将样品取出得到一种新型ZnO纳米片状结构涂层材料。

2.根据权利要求1所述的一种新型ZnO纳米片状结构涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤一是采用溶胶凝胶法，以醋酸锌为前驱体，单乙醇胺为络合剂，乙二醇甲醚为溶剂，配制0.01mol/L～0.025mol/L的ZnO种子层溶胶。

3.根据权利要求1所述的一种新型ZnO纳米片状结构涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤二是使用浸渍提拉法，将ITO玻璃基底缓慢的浸入到步骤一配好的ZnO种子层溶胶中20s，使溶胶与ITO玻璃基底表面充分接触，然后以6cm/min的速度垂直地提拉ITO玻璃基底，将湿膜放在100℃恒温箱中进行烘干处理15～20min，重复操作一次，将薄膜放到马弗炉中在250℃下保温烧结1～2h，得到ZnO种子层薄膜。

4.根据权利要求1所述的一种新型ZnO纳米片状结构涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤三是以醋酸锌和六次甲基四胺按1：1摩尔比例配置0.025mol/L～0.15mol/L的ZnO生长溶液；将制备好的ZnO种子层薄膜基底，垂直的放入ZnO生长溶液中，在75℃下恒温水浴处理3～4h。

5.根据权利要求1所述的一种新型ZnO纳米片状结构涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤四是待水热反应结束后，在步骤三ZnO生长溶液中继续进行腐蚀反应5～15d，将样品取出，得到一种新型ZnO纳米片状结构涂层。