[发明专利]指纹识别传感器的制备方法

权利要求书

1.一种指纹识别传感器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供多块初始生瓷片；

在所述初始生瓷片上形成第一电路层以得到第一生瓷片，及在所述初始生瓷片上形成第二电路层以得到第二生瓷片，所述第一电路层包括多条发射电极，所述第二电路层包括多条接收电极；

堆叠所述第一生瓷片、所述第二生瓷片及多块所述初始生瓷片以得到叠层生瓷片；

等静压处理所述叠层生瓷片以形成巴块；和

烧结所述巴块以得到所述指纹识别传感器。

2.如权利要求1所述指纹识别传感器的制备方法，其特征在于，所述提供多块初始生瓷片的步骤包括：

制备用于形成指纹识别传感器的浆料；和

将所述浆料通过流延成型工艺形成多块所述初始生瓷片。

3.如权利要求1或2所述指纹识别传感器的制备方法，其特征在于，所述等静压处理所述叠层生瓷片以形成巴块的步骤之后，所述制备方法还包括：

切除所述巴块上多余的部分。

4.如权利要求1或2所述指纹识别传感器的制备方法，其特征在于，所述烧结所述巴块以得到所述指纹识别传感器的步骤之前，所述制备方法还包括：

对所述巴块进行排胶处理。

5.如权利要求1或2所述指纹识别传感器的制备方法，其特征在于，所述烧结所述巴块的步骤采用快烧工艺实现。

6.如权利要求1或2所述指纹识别传感器的制备方法，其特征在于，在烧结所述巴块之后，所述制备方法的步骤还包括：

对烧结后的所述巴块进行清洗、烘干以得到所述指纹识别传感器。

7.如权利要求6所述指纹识别传感器的制备方法，其特征在于，所述对所述第三巴块进行清洗的步骤采用超声清洗实现。

8.如权利要求1或2所述指纹识别传感器的制备方法，其特征在于，多条所述发射电极彼此平行，多条所述接收电极彼此平行，所述叠层生瓷片中的多条所述发射电极与多条所述接收电极对应。

9.如权利要求1或2所述指纹识别传感器的制备方法，其特征在于，所述初始生瓷片、所述第一生瓷片和所述第二生瓷片的厚度均为50-200μm，所述叠层生瓷片由3-8块所述初始生瓷片叠层、一块所述第一生瓷片和一块所述第二生瓷片堆叠得到。

10.如权利要求1或2所述指纹识别传感器的制备方法，其特征在于，所述第一电路层与所述第二电路层均位于所述叠层生瓷片的内部；或

所述第一电路层位于所述叠层生瓷片的表面，所述第二电路层位于所述叠层生瓷片的内部；或

所述第二电路层位于所述叠层生瓷片的表面，所述第一电路层位于所述叠层生瓷片的内部。