[发明专利]用于压印光刻的无缝大面积主模板的制造

权利要求书

1.一种形成大面积模板的方法，包含：

提供基板；

通过在该基板上产生多个图案化的场而在该基板上形成包括光栅的图案化的层，其中相邻的场图案之间的任何中断小于10微米，其中所述多个图案化的场被缝接在一起以产生无接缝的图案，并且其中所述产生包括通过在x方向和y方向上进行特征调整来降低该无接缝的图案的边缘的曝光；以及

将该图案转移至该基板内并移除任何残留的图案化的层以在该基板上形成图案化的特征区域。

2.如权利要求1所述的方法，还包括：

在该图案化的层和该基板之间形成氧化物层；以及

在将该图案转移至该基板内之前将该图案转移至该氧化物层中。

3.如权利要求2所述的方法，还包括：

在该氧化物层上形成防反射涂层。

4.如权利要求2所述的方法，还包括：

在该氧化物层上形成硬掩模。

5.如权利要求1所述的方法，其中，将该图案转移至该基板内包括：将该图案转移至该基板的台面中以在该基板的台面上形成图案化的特征区域。

6.如权利要求1所述的方法，还包括：

在该基板的图案化的特征区域上形成保护层；以及

蚀刻去除该基板的一部分以形成该基板的台面，该台面包括图案化的特征区域。

7.一种形成大面积模板的方法，包含：

提供基板；

在该基板上形成氧化物层；

在该氧化物层上形成防反射涂层；

在该防反射涂层上形成包括光栅的图案化的层；

通过在该基板上产生多个图案化的场而将该图案化的层的图案转移至该防反射涂层和该氧化物层中，其中相邻的场图案之间的任何中断小于10微米，其中所述多个图案化的场被缝接在一起以产生无接缝的图案，并且其中所述产生包括通过在x方向和y方向上进行特征调整来降低该无接缝的图案的边缘的曝光；以及

将该图案转移至该基板内并移除任何残留的图案化的层以在该基板上形成图案化的特征区域。

8.如权利要求7所述的方法，其中，将该图案转移至该基板内包括：将该图案转移至该基板的台面中以在该基板的台面上形成图案化的特征区域。

9.如权利要求7所述的方法，还包括：

在该基板的图案化的特征区域上形成保护层；以及

蚀刻去除该基板的一部分以形成该基板的台面，该台面包括图案化的特征区域。

10.一种形成大面积模板的方法，包含：

提供多层结构，该多层结构包括基板、氧化物层和防反射涂层，该氧化物层位于该基板和该防反射涂层之间；

在该多层结构上形成包括光栅的图案化的层；

通过在该基板上产生多个图案化的场而将该图案化的层的图案转移至该多层结构中，其中相邻的场图案之间的任何中断小于10微米，其中所述多个图案化的场被缝接在一起以产生无接缝的图案，并且其中所述产生包括通过在x方向和y方向上进行特征调整来降低该无接缝的图案的边缘的曝光；以及

将该图案转移至该基板内并移除任何残留的图案化的层以在该基板上形成图案化的特征区域。

11.如权利要求10所述的方法，其中，将该图案转移至该基板内包括：将该图案转移至该基板的台面中以在该基板的台面上形成图案化的特征区域。

12.如权利要求10所述的方法，还包括：

在该基板的图案化的特征区域上形成保护层；以及

蚀刻去除该基板的一部分以形成该基板的台面，该台面包括图案化的特征区域。