[发明专利]一种高水氧阻隔能力的量子点膜及其制备方法

权利要求书

1.一种高水氧阻隔能力的量子点膜，包括量子点层和水氧阻隔层，所述水氧阻隔层设置在所述量子点层的上、下表面，其特征在于，所述量子点层包括：量子点、扩散粒子、线性树脂、成核剂和成膜助剂；所述量子点层包括以下重量份配比的原料：

所述线性树脂包括结晶性或半结晶性的线性聚烯烃、线性聚氨酯、线性聚脲中的一种或多种；

所述的一种高水氧阻隔能力的量子点膜的制备方法包括以下制备步骤：

S010、在室温下，将量子点、扩散粒子、线性树脂、成核剂和成膜助剂均匀混合，形成液态混合物；

S020、将S010步骤中的液态混合物涂布在离型膜表面，然后在80℃～110℃下加热5min～30min，使液态混合物固化成量子点薄膜，再将离型膜去除后便得到量子点层；

S030、将S020步骤中制备的量子点层加热到110℃～150℃并对量子点层进行单向拉伸；

S040、在进行单向拉伸后的量子点层上、下表面各贴合一层水氧阻隔层后，即得到高水氧阻隔能力的量子点膜。

2.根据权利要求1所述的一种高水氧阻隔能力的量子点膜，其特征在于：所述成核剂包括有机羧酸盐、有机磷酸盐、歧化松香盐、芳香族酰胺化合物、脂肪族或芳香族羧酸酯类化合物、聚乙二醇中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的一种高水氧阻隔能力的量子点膜，其特征在于：所述成膜助剂包括流平剂、基材润湿剂、交联促进剂、有机溶剂中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的一种高水氧阻隔能力的量子点膜，其特征在于：所述扩散粒子包括有机粒子、无机粒子中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的一种高水氧阻隔能力的量子点膜，其特征在于：所述扩散粒子为聚甲基丙烯酸甲酯粒子或有机硅粒子。