[发明专利]一种量子点彩色滤光片及其制造方法、显示装置

权利要求书

1.一种量子点彩色滤光片，其特征在于，包括衬底基板、黑矩阵和量子点层，所述黑矩阵和所述量子点层均位于所述衬底基板上，所述黑矩阵呈网格状，所述量子点层位于所述黑矩阵所围成的网格内，其中，所述黑矩阵可反射所述量子点层中的量子点被激发后发出的光。

2.根据权利要求1所述的量子点彩色滤光片，其特征在于，所述黑矩阵包括位于所述衬底基板上的第一黑矩阵层和覆盖在所述第一黑矩阵层上的第二黑矩阵层，所述第二黑矩阵层的光反射率高于所述第一黑矩阵层的光反射率，所述第一黑矩阵层与所述衬底基板之间的贴合力高于所述第二黑矩阵层与所述衬底基板之间的贴合力。

3.根据权利要求2所述的量子点彩色滤光片，其特征在于，所述第一黑矩阵层的材料为铬，所述第二黑矩阵层的材料为铝、银或铝银合金。

4.根据权利要求2所述的量子点彩色滤光片，其特征在于，所述第一黑矩阵层的厚度为5μm～100μm，所述第二黑矩阵层的厚度为2nm～20nm。

5.根据权利要求1所述的量子点彩色滤光片，其特征在于，所述黑矩阵的材料为铝、银或铝银合金。

6.根据权利要求3或5所述的量子点彩色滤光片，其特征在于，所述铝银合金中，铝和银的质量比为90:10～95:5。

7.根据权利要求5所述的量子点彩色滤光片，其特征在于，所述黑矩阵的厚度为5μm～100μm。

8.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置设置有如权利要求1～7任一所述的量子点彩色滤光片。

9.一种量子点彩色滤光片的制造方法，其特征在于，用于制造如权利要求1～7任一所述的量子点彩色滤光片，所述量子点彩色滤光片的制造方法包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成黑矩阵和量子点层，所述黑矩阵呈网格状，所述量子点层位于所述黑矩阵所围成的网格内，其中，所述黑矩阵可反射所述量子点层中的量子点被激发后发出的光。

10.根据权利要求9所述的量子点彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上形成黑矩阵和量子转换层的步骤包括：

采用液相沉积法在所述衬底基板上沉积铬金属层；

在所述铬金属层上涂覆光刻胶；

对涂覆在所述铬金属层上的光刻胶进行曝光和显影；

对所述铬金属层进行湿刻，其中，对所述铬金属层进行湿刻时所使用的刻蚀液为硝酸铈铵与高氯酸的混合溶液，硝酸铈铵的质量百分数为5％～20％，高氯酸的体积百分数为1.5％～8％；

去除所述铬金属层上未被曝光的光刻胶；

采用电化学沉积法形成覆盖铬的铝、银或铝银合金；

在所述衬底基板上形成所述量子点层。

11.根据权利要求9所述的量子点彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上形成黑矩阵和量子转换层的步骤包括：

采用液相沉积法在所述衬底基板上沉积铝金属层、银金属层或铝银合金层；

在所述铝金属层、所述银金属层或所述铝银合金层上涂覆光刻胶；

对涂覆在所述铝金属层、所述银金属层或所述铝银合金层上的光刻胶进行曝光和显影；

对所述铝金属层、所述银金属层或所述铝银合金层进行刻蚀；

去除所述铝金属层、所述银金属层或所述铝银合金层上未被曝光的光刻胶；

在所述衬底基板上形成所述量子点层。

12.根据权利要求11所述的量子点彩色滤光片的制造方法，其特征在于，对所述铝金属层进行刻蚀时，利用氯化硼刻蚀剂对所述铝金属层进行刻蚀，并利用钝化气体对所述铝金属层进行钝化和冲洗，所述钝化气体包括氮气、三氟甲烷和乙烯，所述钝化气体中，氮气、三氟甲烷和乙烯的体积比为3:1:2～5:3:3。