[发明专利]一种金属纳米线的清洗方法

权利要求书

1.一种金属纳米线的清洗方法，包括涂层工序、清洗工序、分散工序和清除工序，其特征在于，所述涂层工序、清洗工序、分散工序和清除工序依次进行；

所述涂层工序为：在金属纳米线表面形成一层保护层，所述保护层包括无机氧化物保护层、无机盐保护层或有机物保护层，所述无机氧化物保护层材质包括但不限于二氧化硅、二氧化钛、氧化铜、三氧化二铁、氧化锌、氧化镁或氧化铝，所述无机盐保护层材质包括但不限于碳酸钙、碳酸镁、碳酸钡或碳酸锌，所述有机物保护层材质包括但不限于十六烷基三甲基氯化铵、十六烷基三甲基溴化铵、三苯基膦、氯化十六烷基吡啶或溴化十六烷基吡啶；

形成所述无机氧化物保护层的方法至少为一种，包括热分解法或水解法；所述热分解法步骤为：将金属纳米线浆料与溶剂混合均匀，加入无机氧化物保护层前驱物，待其溶解后加入助剂Ⅰ形成保护层，用溶剂抽滤清洗含保护层的金属纳米线，一定温度下进行热分解形成无机氧化物保护层；所述水解法步骤为：将金属纳米线浆料与溶剂混合均匀，加入无机氧化物保护层前驱物，待其混合均匀后加入助剂Ⅰ，形成无机氧化物保护层；形成所述的无机盐保护涂层步骤为：将金属纳米线浆料与溶剂混合均匀，加入无机盐保护层前驱物，待其溶解后加入助剂Ⅰ形成无机盐保护层；形成所述有机物保护涂层步骤为：将金属纳米线浆料与溶剂混合均匀，加入有机物保护层前驱物，混合一定时间后形成一层有机物保护层；

所述的清洗工序为：以溶剂清洗含保护层的金属纳米线，得到清洗物；清洗方式为抽滤洗涤；

所述分散工序为：将含有保护层的金属纳米线与分散剂溶液混合均匀，所述的分散剂至少为一种，包括阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、非离子表面活性剂、两性离子表面活性剂、盐类及有机高分子；所述的阴离子表面活性剂至少为一种，包括十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磷酸酯钾盐、十二烷基醇聚氧乙烯醚硫酸钠或十二烷基硫酸钠；阳离子表面活性剂至少为一种，包括十六烷基三甲基氯化铵、十六烷基三甲基溴化铵、十二烷基二甲基苄基氯化铵或十二烷基吡啶氯化铵；非离子表面活性剂至少为一种，包括聚乙烯吡咯烷酮、烷基酚聚氧乙烯醚、硬脂酸甲酯聚氧乙烯醚、硬脂酸聚氧乙烯酯、吐温或司盘；两性离子表面活性剂至少为一种，包括十二烷基氨基丙酸、烷基二甲基磺乙基甜菜碱、烷基二甲基羟丙基磷酸脂甜菜碱或烷基二甲基甜菜碱；盐类至少为一种，包括氯化钠、溴化钠、柠檬酸钠、醋酸钠或草酸钠；有机高分子至少为一种，包括聚乙烯醇、聚氧乙烯、羟基甲基纤维素、聚苯乙烯磺酸盐或氨基烷基丙烯酸酯共聚物；

所述清除工序为：采用溶解法对金属纳米线表面的保护层进行清除，所述溶解法为将含有保护层的金属纳米线分散液与助剂Ⅱ混合均匀，静置倾去上清液，得洗清过后的金属纳米线。

2.根据权利要求1所述的金属纳米线的清洗方法，其特征在于所述涂层工序中，金属纳米线浆料浓度为0.01-50mg/ml；金属纳米线与保护层前驱物的质量比为（1:0.01）-（1:50）；金属纳米线浆料与溶剂的体积比为（1:0.1）-（1:50）；保护层前驱物与助剂Ⅰ的质量比为（1:0.01）-（1:10）；热分解温度为30-1500℃。

3.根据权利要求1所述的金属纳米线的清洗方法，其特征在于所述的无机氧化物保护层前驱物至少为一种，包括硝酸铜、硫酸铜、氯化铜、氯化钙、硝酸钙、氯化镁、硝酸镁、氯化铁、硝酸铁、硝酸锌、氯化锌、氯化铝、硝酸铝、硫酸铝、硝酸钡、氯化钡、钛酸四丁酯、异丙醇钛、硫酸钛、四氯化钛、原硅酸四乙酯或正硅酸甲酯，形成无机氧化物保护层的厚度大于1nm；所述的无机盐保护层前驱物至少为一种，包括硝酸铜、硫酸铜、氯化铜、氯化钙、硝酸钙、氯化镁、硝酸镁、氯化铁、硝酸铁、硝酸锌、氯化锌、氯化铝、硝酸铝、硫酸铝、硝酸钡或氯化钡，形成无机盐保护层厚度大于1nm；所述的有机物保护层前驱物至少为一种，包括十六烷基三甲基氯化铵、十六烷基三甲基溴化铵、三苯基膦、氯化十六烷基吡啶或溴化十六烷基吡啶。

4.根据权利要求1所述的金属纳米线的清洗方法，其特征在于所述助剂Ⅰ至少为一种，包括去离子水、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、磷酸或硫酸；助剂Ⅱ至少为一种，包括盐酸、硝酸、硫酸、醋酸、氨水、氯化铵、硫酸铵、硝酸铵、氢氧化钾或氢氧化钠。