[发明专利]一种地下立交分岔隧道的暗挖结构在审

专利信息
申请号: 201710165984.2 申请日: 2017-03-20
公开(公告)号: CN106894825A 公开(公告)日: 2017-06-27
发明(设计)人: 朱道建 申请(专利权)人: 上海市政工程设计研究总院(集团)有限公司
主分类号: E21D9/14 分类号: E21D9/14
代理公司: 上海世圆知识产权代理有限公司31320 代理人: 陈颖洁
地址: 200092 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 地下 立交 分岔 隧道 结构
【权利要求书】:

1.一种地下立交分岔隧道的暗挖结构,其特征在于,

包括断面宽度逐渐变大的至少一级的渐变段、与最后一级渐变段连接的大跨隧道最大断面段(5)、小净距隧道段(7)以及分离式隧道段(8);

所述小净距隧道段(7)和分离式隧道段(8)的中间设有将所述隧道分岔的预留中间岩柱(10);

分岔后的所述小净距隧道段(7)一端与大跨隧道最大断面段(5)连接;

分岔后的所述分离式隧道段(8)对应连接所述小净距隧道段(7)的另一端。

2.根据权利要求1所述的地下立交分岔隧道的暗挖结构,其特征在于,还包括分岔后的连拱隧道段(6),所述连拱隧道段(6)设置在所述大跨隧道最大断面段(5)与所述小净距隧道段(7)之间,所述连拱隧道段(6)中间还设有与所述预留中间岩柱(10)连接的中墙结构(9)。

3.根据权利要求2所述的地下立交分岔隧道的暗挖结构,其特征在于,所述中墙结构(9)和预留中间岩柱(10)的厚度呈连续增大设置,所述中墙结构(9)的最大厚度端与所述预留中间岩柱(10)的最小厚度端平滑连接。

4.根据权利要求2或3所述的地下立交分岔隧道的暗挖结构,其特征在于,所述大跨隧道最大断面段(5)的断面宽度大于等于所述连拱隧道段(6)和中墙结构(9)的总宽度,所述大跨隧道最大断面段(5)和所述连拱隧道段(6)的两侧侧墙采用相同半径以确保结构平滑连接和施工工艺的合理转换。

5.根据权利要求4所述的地下立交分岔隧道的暗挖结构,其特征在于,所述分岔后的连拱隧道段(6)的单洞断面宽度设置为相同或不相同。

6.根据权利要求1或2或3所述的地下立交分岔隧道的暗挖结构,其特征在于,所述渐变段包括第一渐变段(1)、第二渐变段(2)、第三渐变段(3)以及第四渐变段(4),第一渐变段(1)、第二渐变段(2)、第三渐变段(3)以及第四渐变段(4)的断面宽度呈渐变增加方式设置,所述相邻渐变段的侧墙一侧采用相同半径以平滑连接,另一侧采用断面宽度突变的方式进行连接。

7.根据权利要求5所述的地下立交分岔隧道的暗挖结构,其特征在于,所述相邻渐变段的断面宽度变化范围为1.5 m - 3.5 m。

8.根据权利要求1或2或3或5或7所述的地下立交分岔隧道的暗挖结构,其特征在于,所述大跨隧道最大断面段(5)的断面宽度大于等于所述小净距隧道段(7)和预留中间岩柱(10)的总宽度,所述大跨隧道最大断面段(5)和所述小净距隧道段(7)的两侧侧墙采用相同半径以确保结构平滑连接和施工工艺的合理转换。

9.根据权利要求1或2或3或5或7所述的地下立交分岔隧道的暗挖结构,其特征在于,所述分离式隧道段(8)与小净距隧道段(7)的两侧侧墙采用相同半径以确保结构平滑连接和施工工艺的合理转换。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海市政工程设计研究总院(集团)有限公司,未经上海市政工程设计研究总院(集团)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710165984.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top