[发明专利]偏振片、偏振膜以及偏振片的制造方法有效

专利信息
申请号: 201710164589.2 申请日: 2017-03-17
公开(公告)号: CN107219583B 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 出崎光 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 刘文海
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 偏振 以及 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种偏振片的制造方法,所述偏振片是二色性色素在聚乙烯醇系树脂中被取向的偏振片,

所述偏振片的制造方法的特征在于,

所述偏振片的厚度为10μm以下,

所述偏振片的制造方法包括:

在基材上形成以聚乙烯醇系树脂为形成材料的树脂层的树脂层形成工序;

将所述树脂层与所述基材一起延伸的延伸工序;以及

使所述二色性色素吸附于所述树脂层的染色工序,

所述树脂层形成工序包括在所述基材上涂布包含聚乙烯醇系树脂和水的树脂层用涂敷液的工序、以及对所涂布的所述树脂层用涂敷液进行干燥的工序,

对所述树脂层用涂敷液进行干燥的工序的时长为180秒以下,干燥温度为80℃以上,

在对所述树脂层用涂敷液进行干燥的工序中,所述树脂层用涂敷液所包含的所述水从30质量%减少至10质量%为止的期间的干燥速度为1.6质量%/秒以上且2.1质量%/秒以下。

2.根据权利要求1所述的偏振片的制造方法,其中,

所述偏振片的制造方法在所述树脂层形成工序之前还包括在所述基材上形成底涂层的底涂层形成工序,

所述底涂层形成工序包括在所述基材上涂布底涂层用涂敷液的工序、以及对所涂布的所述底涂层用涂敷液进行干燥的工序。

3.一种偏振片,其特征在于,通过权利要求1或2所述的偏振片的制造方法制造而成。

4.一种偏振膜,其特征在于,具备:

权利要求3所述的偏振片;以及

设置于所述偏振片的至少一方的面的保护膜。

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