[发明专利]一种高居里温度的铁锆非晶多层膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201710153336.5 | 申请日： | 2017-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN108624852B | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 孙铭;吴斌;冯涛;彭国 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C22C45/02;C22C45/00 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 邹伟红;朱显国 |
| 地址： | 210094 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 居里 温度 铁锆非晶 多层 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种高居里温度的铁锆非晶多层膜，其特征在于，其成分为Fe75Zr25/Cu64Zr36，每一单层膜的厚度为10nm，层数为50层。
2.如权利要求1所述的铁锆非晶多层膜，其特征在于，所述的Fe75Zr25/Cu64Zr36非晶多层膜的居里温度大于300K。
3.如权利要求1或2所述的铁锆非晶多层膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：
(1)选择了Fe75Zr25、Cu64Zr36合金靶，选用干净Si(111)单晶片作为衬底基片，高纯氩气为工作气体，氮气作为腔室的干燥气体；
(2)溅射时，预抽真空至1*10-4Pa以下，通入氩气，使得压强达到0.5Pa，靶材溅射功率为30W，控制每一单层膜的生长厚度为10nm，生长层数为50层。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤(2)中，通过控制Fe75Zr25合金靶的溅射时间为400s、Cu64Zr36合金靶的溅射时间为150s、循环次数为25次来控制每一单层膜的生长厚度为10nm，生长层数为50层。
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