[发明专利]一种精密电子元件清洗剂及其制备工艺

权利要求书

1.一种精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，其由以下质量份数的原料制成：十二烷基硫酸钠1-10份、异己烷20-50份、无水乙醇10-40份、环己烷20-50份和乙二醇单丁醚5-25份。

2.根据权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠为2份，所述异己烷为45份，所述无水乙醇为20份，所述环己烷为25份，所述乙二醇单丁醚为8份。

3.根据权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠为4份，所述异己烷为30份，所述无水乙醇为30份，所述环己烷为40份，所述乙二醇单丁醚为10份。

4.根据权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠为6份，所述异己烷为25份，所述无水乙醇为35份，所述环己烷为25份，所述乙二醇单丁醚为20份。

5.根据权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠为6份，所述异己烷为25份，所述无水乙醇为35份，所述环己烷为25份，所述乙二醇单丁醚为20份。

6.根据权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠为1份，所述异己烷为20份，所述无水乙醇为10份，所述环己烷为20份，所述乙二醇单丁醚为5份。

7.根据权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠为10份，所述异己烷为50份，所述无水乙醇为40份，所述环己烷为50份，所述乙二醇单丁醚为25份。

8.一种权利要求1所述精密电子元件制备清洗剂的制备工艺，其特征在于，其包括以下步骤：

步骤1：将无水乙醇投入真空乳化釜中，缓慢搅拌，并且升温至40℃；

步骤2：将十二烷基硫酸钠缓慢加入所述真空乳化釜中，并搅拌均匀；

步骤3：将乙二醇单丁醚加入所述真空乳化釜中，搅拌，均质乳化10分钟；

步骤4：将异己烷加入所述真空乳化釜的油相反应釜中，开启所述真空乳化釜的乳化釜真空泵，控制压力为-0.05mpa，将所述油相反应釜中的异己烷缓慢抽入所述真空乳化釜中，该抽入过程时间控制为25-30分钟；

步骤5：将环己烷加入所述真空乳化釜的油相反应釜中，开启所述真空乳化釜的乳化釜真空泵，控制压力为-0.05mpa，将油相釜中的环己烷缓慢抽入乳化釜中，该抽入过程时间控制为15-25分钟，抽入完成后均质乳化5分钟；

步骤6：往该真空乳化釜的夹套中注入冷水进行降温，使温度降至28℃以下，停止搅拌，静置4h即完成制备过程。

9.根据权利要求8所述精密电子元件制备清洗剂的制备工艺，其特征在于，所述步骤3中，均质速度为1200rpm，搅拌速度为15rpm。

10.根据权利要求8所述精密电子元件制备清洗剂的制备工艺，其特征在于，所述步骤5中，均质速度为1200rpm，搅拌速度为15rpm。