[发明专利]一种光栅微透镜层级结构及其制备方法

权利要求书

1.一种光栅微透镜层级结构的制备方法，其特征在于：该光栅微透镜层级结构包括基底(1)，在所述的基底(1)上设有微透镜阵列(3)，在基底(1)和微透镜阵列(3)的表面上均设有一维周期性光栅(2)；所述的基底(1)、一维周期性光栅(2)和微透镜阵列(3)材质相同；所述的一种光栅微透镜层级结构的制备方法，包括如下步骤：

S1、在基底(1)上热压印制备一维周期性光栅(2)；

S2、在制备的一维周期性光栅(2)上涂布丝素蛋白保护牺牲层；

S3、在涂布丝素蛋白保护牺牲层的一维周期性光栅(2)上热压印微透镜阵列(3)；

S4、水洗除去丝素蛋白保护牺牲层，形成光栅微透镜层级结构。

2.根据权利要求1所述的一种光栅微透镜层级结构的制备方法，其特征在于：所述的微透镜阵列(3)在基底(1)上的是凸起或凹陷状态。

3.根据权利要求1所述的一种光栅微透镜层级结构的制备方法，其特征在于：所述的材质是聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚碳酸酯。

4.根据权利要求1所述的一种光栅微透镜层级结构的制备方法，其特征在于：所述的一维周期性光栅(2)的周期为100～800nm，槽深为60～100nm，占空比为0.3～0.8。

5.根据权利要求1所述的一种光栅微透镜层级结构的制备方法，其特征在于：所述的微透镜阵列(3)的直径为30～120μm。

6.根据权利要求1所述的一种光栅微透镜层级结构的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

S1、将金属镍光栅模板放置于纳米压印系统，PET膜为基底(1)，并将PET膜放置于压印平台，加温压印平台到150℃，施加30bar压力的同时保持3min，从而在PET膜上热压印出上述一维周期性光栅(2)结构；

S2、在一维周期性光栅(2)结构表面涂布厚度为2μm，浓度为7％的丝素蛋白保护牺牲层；

S3、将金属镍微透镜凹陷模板放置于纳米压印系统，压印平台继续保持150℃，施加40bar压力保持3.5min，在丝素蛋白保护牺牲层溶液的保护下进行第二次压印，制备出微透镜阵列(3)；

S4、将经过两次压印的PET膜放到去离子水中进行清洗，经过去离子水清洗后，丝素蛋白保护层脱离PET薄膜溶解于水中，最终制备出光栅微透镜层级结构。