[发明专利]一种缓慢提升清洗架在审
| 申请号: | 201710148913.1 | 申请日: | 2017-03-14 |
| 公开(公告)号: | CN106803491A | 公开(公告)日: | 2017-06-06 |
| 发明(设计)人: | 姜涛;李世山;徐晓强;张海春 | 申请(专利权)人: | 苏州聚晶科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B66F7/02;B66F7/28 |
| 代理公司: | 苏州市指南针专利代理事务所(特殊普通合伙)32268 | 代理人: | 李先锋 |
| 地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 缓慢 提升 清洗 | ||
1.一种缓慢提升清洗架,其特征在于,包括提升架、位于提升架下方的电机组件和产品片盒;所述的提身架位于所述的产品片盒的下方,承载所述的产品片盒;所述的电机组件位于所述的提升架的下方,通过履带与所述的提升架连接;
所述的提升架包括移动底板、升降滑轨、滑动护板、提升滑轮、限位顶板、限位底板、纵向底板和横向底板;所述的移动底板位于所的提升架的底部,与所述的限位底板相抵触;所述的升降滑轨竖直贯穿所述的移动底板,与所述的移动底板相配合,所述的移动底板在所述的升降滑轨上自由滑动;所述的滑动护板位于所述的升降滑轨上,与所述的升降滑轨相配合,同时与所述的限位底板固定连接;所述的限位顶板位于所述的升降滑轨的顶端,与所述的升降滑轨固定连接;所述的提升滑轮位于所述的限位顶板的两侧,与所述的限位顶板固定连接,同时通过履带分别与所述的移动底板和电机组件连接;所述的限位底板位于所述的滑动护板的下方,一端与所述的升降滑轨配合连接,下方与所述的移动底板相抵触,一端水平延伸,与所述的滑动护板固定连接;所述的纵向底板垂直于所述的限位底板,与所述的纵向底板固定连接;所述的横向底板平行与所述的限位底板,与所述的纵向底板固定连接。
2.如权利要求1所述的一种缓慢提升清洗架,其特征在于,所述的移动底板上设置有滑动转轴;所述的滑动转轴有两个,对称分布在所述的移动底板上,通过履带与所述的提升滑轮连接。
3.如权利要求1所述的一种缓慢提升清洗架,其特征在于,所述的升降滑轨、滑动护板、限位底板和提升滑轮的数量保持一致,均为两个,对称分布在所述的提升架的两侧。
4.如权利要求1或3所述的一种缓慢提升清洗架,其特征在于,所述的滑动护板上设置有若干通孔。
5.如权利要求1所述的一种缓慢提升清洗架,其特征在于,所述的纵向底板的数量不少于四个,外形与所述的产品片盒的底部相配合。
6.如权利要求1所述的一种缓慢提升清洗架,其特征在于,所述的横向底板的数量不少于四个,两两分布在两个所述的纵向底板之间。
7.如权利要求1所述的一种缓慢提升清洗架,其特征在于,所述的电机组件包括电机底板、传动转轴、驱动电机主轴、减速器、传动滑轮、转轴架和转轴底板;所述的电机底板位于所述的电机组件的最下方,与所述的转轴底板固定连接;电机位于所述的电机底板上,通过所述的驱动电机主轴与所述的减速器固定连接;所述的传动转轴贯穿所述的减速器,向所述的减速器的两侧延伸;所的转轴架位于所述的传动转轴的一端,所述的传动转轴穿过所述的转轴架;所述的转轴底板位于所述的转轴架的下方,与所述的转轴架和电机底板固定连接;所述的传动滑轮位于所述的传动转轴的一端外侧,同时位于所述的转轴架的外侧,与所述的传动转轴固定连接,通过履带与所述的提升架连接。
8.如权利要求7所述的一种缓慢提升清洗架,其特征在于,所述的转轴架和传动滑轮的数量保持一致,均为两个,对称分布在所述的减速器的两侧。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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