[发明专利]半导体结构元件,尤其功率晶体管在审
申请号: | 201710141729.4 | 申请日: | 2017-03-10 |
公开(公告)号: | CN107180859A | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | S·曼斯菲尔德;S·施魏格尔 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | H01L29/417 | 分类号: | H01L29/417;H01L29/78 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 郭毅 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 结构 元件 尤其 功率 晶体管 | ||
1.一种半导体结构元件(1),尤其一种功率晶体管,该半导体结构元件具有衬底、有源半导体区、源焊盘(2)和漏焊盘(4),该有源半导体区具有至少一个源区(8)和至少一个漏区(10),该源焊盘(2)覆盖该衬底的第一部分并且该漏焊盘(4)覆盖该衬底的第二部分,其特征在于,
i.在所述源焊盘(2)或所述漏焊盘(4)与所述至少一个源区(8)或所述至少一个漏区(10)之间布置有基本上水平延伸的、结构化的金属化平面(30),其中
ii.所述源焊盘(2)借助基本上竖直延伸的至少一个第一金属化部(51)与所述金属化平面(30)的至少一个第一部分连接,并且,所述漏焊盘(4)借助基本上竖直延伸的至少一个第二金属化部(52)与所述金属化平面(30)的至少一个第二部分连接,其中
iii.所述金属化平面(30)的所述至少一个第一部分借助基本上竖直延伸的第三金属化部(53)与所述至少一个源区(8)连接,其中,所述金属化平面(30)的所述至少一个第二部分借助基本上竖直延伸的第四金属化部(54)与所述至少一个漏区(10)连接。
2.根据权利要求1所述的半导体结构元件(1),其中,所述金属化平面(30)具有如下结构:使得所述有源半导体区的面积的至少50%,优选所述有源半导体区的面积的至少70%并且特别优选所述有源半导体区的面积的至少90%由所述金属化平面(30)覆盖。
3.根据权利要求1或2所述的半导体结构元件(1),其中,所述至少一个源区(8)和所述至少一个漏区(10)实施为彼此平行定向的条,所述条具有所述源区和漏区(8,10)的条的至少一倍宽度。
4.根据上述权利要求中任一项所述的半导体结构元件(1),其中,所述金属化平面(30)具有梯形构造的条(32,34)。
5.根据权利要求3或4中所述的半导体结构元件(1),其中,所述金属化平面(30)的所述条(32,34)的取向相对于所述源焊盘和漏焊盘(2,4)的取向形成30°至150°、尤其90°的角度。
6.根据上述权利要求中任一项所述的半导体结构元件(1),其中,所述金属化平面(30)具有栅格状或网状的结构。
7.根据上述权利要求中任一项所述的半导体结构元件(1),其中,要么所述源焊盘(2)环形地或箱形地包围所述漏焊盘(4),要么所述漏焊盘(4)环形地或箱形地包围所述源焊盘(2)。
8.根据上述权利要求中任一项所述的半导体结构元件(1),其中,所述半导体结构元件(1)在中间层中具有另一金属化部,所述另一金属化部构造为与所述金属化平面(30)相同类型,其中,所述另一金属化部满足电流分布功能并且布置在所述金属化平面(30)的下方或上方。
9.根据上述权利要求中任一项所述的半导体结构元件(1),其中,所述金属化平面(30)具有在共同平面中处于不同电势上的至少两个区域(36,38),所述至少两个区域如此结构化,使得所述至少两个区域齿状地或峰尖状地彼此啮合。
10.一种用于车辆的控制设备,其包括至少一个根据上述权利要求中任一项所述的半导体结构元件(1)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗伯特·博世有限公司,未经罗伯特·博世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710141729.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:VDMOS器件的制作方法
- 下一篇:半导体装置
- 同类专利
- 专利分类