[发明专利]气体分析装置在审

专利信息
申请号: 201710140558.3 申请日: 2012-12-27
公开(公告)号: CN107421952A 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 大西敏和;辻本敏行 申请(专利权)人: 株式会社堀场制作所
主分类号: G01N21/85 分类号: G01N21/85;G01N21/3504;G01N21/15
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司31300 代理人: 肖华
地址: 日本京都府京*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 气体 分析 装置
【权利要求书】:

1.一种气体分析装置,其特征在于,包括:

形成用于向在烟道内流动的试样气体的规定的测定区域投射测定光、和/或从该测定区域接收测定光的光路的管状构件;

对所述测定区域内的试样气体投射测定光、和/或从该测定区域接收测定光的光学系统构件;

吹扫气体提供管,其具有中空部,所述中空部包含用于向在所述光学系统构件与所述测定区域之间的区域提供吹扫气体的吹扫气体流路、和所述测定光的光路,所述吹扫气体提供管与所述管状构件的内壁面隔开第1间隙地配置于所述管状构件的内部;

凸缘,其以在所述管状构件的外壁面与所述安装部的内壁面之间形成第2间隙的方式固定在设置于所述烟道的侧壁的开口的安装部上。

2.如权利要求1所述的气体分析装置,其特征在于,

在所述吹扫气体提供管的中空部内流动的吹扫气体为层流。

3.如权利要求1或2所述的气体分析装置,其特征在于,

所述吹扫气体提供管的顶端配置于所述测定区域的端部附近。

4.如权利要求1或2所述的气体分析装置,其特征在于,

进一步包括,设置于所述吹扫气体提供管的顶端、从所述测定区域遮蔽所述第2间隙的第2遮蔽板。

5.如权利要求1或2所述的气体分析装置,其特征在于,

所述第2间隙构成,用于向所述光学系统构件与所述测定区域之间的区域提供吹扫气体的第2吹扫气体流路,

所述气体分析装置进一步包括:为了搅拌通过所述第2吹扫气体流路的吹扫气体而设于所述第2间隙中的搅拌部。

6.如权利要求5所述的气体分析装置,其特征在于,

所述管状构件与烟道内的试样气体的流路交叉配置,用以将在所述烟道内流动的试样气体导入内部中空内的所述测定区域,

所述光学系统构件包括:设于所述管状构件的第1端的、具有将所述测定光出射到测定区域的发光部和接收通过了所述测定区域内的试样气体的测定光的受光部的第1光学系统构件;以及具有设于所述管状构件的第2端、将来自所述发光部的照射光反射至所述受光部侧的反射器的第2光学系统构件,

所述气体分析装置进一步包括,与所述第2间隙连通、且顶端位于所述第2光学系统构件的附近的顶端部吹扫气体提供管,

通过所述第2吹扫气体流路和所述顶端部吹扫气体提供管,向所述第2光学系统构件附近提供吹扫气体。

7.如权利要求5所述的气体分析装置,其特征在于,

所述搅拌部包括,为了搅拌通过所述第2间隙的吹扫气体而设于所述吹扫气体提供管的外壁面上的一个或多个隔板。

8.如权利要求3所述的气体分析装置,其特征在于,

进一步包括,设置于所述吹扫气体提供管的顶端、从所述测定区域遮蔽所述第2间隙的第2遮蔽板。

9.如权利要求3所述的气体分析装置,其特征在于,

所述第2间隙构成,用于向所述光学系统构件与所述测定区域之间的区域提供吹扫气体的第2吹扫气体流路,

所述气体分析装置进一步包括:为了搅拌通过所述第2吹扫气体流路的吹扫气体而设于所述第2间隙中的搅拌部。

10.如权利要求9所述的气体分析装置,其特征在于,

所述管状构件与烟道内的试样气体的流路交叉配置,用以将在所述烟道内流动的试样气体导入内部中空内的所述测定区域,

所述光学系统构件包括:设于所述管状构件的第1端的、具有将所述测定光出射到测定区域的发光部和接收通过了所述测定区域内的试样气体的测定光的受光部的第1光学系统构件;以及具有设于所述管状构件的第2端、将来自所述发光部的照射光反射至所述受光部侧的反射器的第2光学系统构件,

所述气体分析装置进一步包括,与所述第2间隙连通、且顶端位于所述第2光学系统构件的附近的顶端部吹扫气体提供管,

通过所述第2吹扫气体流路和所述顶端部吹扫气体提供管,向所述第2光学系统构件附近提供吹扫气体。

11.如权利要求9所述的气体分析装置,其特征在于,

所述搅拌部包括,为了搅拌通过所述第2间隙的吹扫气体而设于所述吹扫气体提供管的外壁面上的一个或多个隔板。

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