[发明专利]一种调控非对称透射的单层矩形孔金纳米薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种调控非对称透射的单层矩形孔金纳米薄膜，由多个相同的金纳米单元拼接而成，所述金纳米单元用于实现光的非对称透射，其特征在于，所述金纳米单元为长方体，所述金纳米单元上设有矩形孔，所述金纳米单元包括金薄膜及防止金薄膜脱落的钛薄膜，所述金薄膜设置在所述钛薄膜的上方。

2.如权利要求1所述的调控非对称透射的单层矩形孔金纳米薄膜，其特征在于，所述金纳米单元P_x、P_y方向的边长为520nm～680nm，所述金纳米单元的高度t为80nm～120nm。

3.如权利要求2所述的调控非对称透射的单层矩形孔金纳米薄膜，其特征在于，所述矩形孔的长度l为460nm～540nm，所述矩形孔的宽度w为160nm～240nm。

4.如权利要求3所述的调控非对称透射的单层矩形孔金纳米薄膜，其特征在于，所述矩形孔长度方向与P_x方向之间的夹角α为0°～180°。

5.如权利要求1-4任一项所述单层矩形孔金纳米薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、甩胶后烘:用甩胶机在基底上甩电子束负胶SU-8后，放置在热板上烘烤；

步骤二、曝光:对所述步骤一烘烤后的基底，用图形发生器设计如权利要求1-4任一项所述单层矩形孔金纳米薄膜的结构图形，并用电子显微镜曝光图形，得到曝光后的基底；

步骤三、显定影后烘:室温条件下，将所述步骤二曝光后的基底先放入显影液中浸泡显影，再放入定影液中浸泡，最后放置在热板上烘烤；

步骤四、真空镀膜:将所述步骤三烘烤后的基底放入电子束真空蒸发镀膜机中，先抽真空，再依次蒸镀钛和金，最后冷却10min～20min后取出；

步骤五、溶胶后吹干:先将所述步骤四镀膜后的基底置于去胶液中，直至电子束负胶SU-8完全溶解，最后进行吹干，得到单层金纳米薄膜。

6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述步骤一之前还包括基底清洗步骤，所述基底清洗步骤为：将基底放入洗涤液中清洗，再依次用去离子水、丙酮、酒精、去离子水超声清洗，最后吹干。

7.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述步骤四中蒸镀钛的厚度为10nm，蒸镀金的厚度为40nm。

8.如权利要求5或7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤一中甩电子束负胶SU-8的厚度为200nm。

9.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述基底为ITO玻璃，所述ITO玻璃的透射率大于83％。

10.如权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于，所述吹干步骤采用的是氮气吹干或洗耳球吹干。