[发明专利]可调平面阴极机构及真空镀膜装置

权利要求书

1.一种可调平面阴极机构，其特征在于，包括：

平面阴极部件，包括阴极体基座、背板、靶材压板及多个磁体组件；所述背板与所述阴极体基座形成收容腔；所述靶材压板用于将靶材定位于所述背板的外侧；所述多个磁体组件设于所述收容腔中，多个所述磁体组件与所述背板相对而设，且多个所述磁体组件沿所述阴极体基座的长度方向分布；及

多个移位组件，分别与多个所述磁体组件连接，各所述移位组件能带动对应的所述磁体组件远离或靠近所述背板运动，以增大或减小所述磁体组件与所述靶材的距离，进而增大或减小所述靶材与所述磁体组件相对的表面的磁场强度。

2.如权利要求1所述的可调平面阴极机构，其特征在于，在所述阴极体基座的长度方向上对应所述磁体组件和所述移位组件，所述阴极体基座分为多个子阴极体基座，所述背板分为多个子背板，所述靶材压板分为多个子靶材压板；所述子阴极体基座和对应的子背板形成子收容腔，所述多个磁体组件分别设于多个子收容腔中，对应的所述子阴极体基座、所述子背板、所述子靶材压板、所述磁体组件和所述移位组件构成所述可调平面阴极机构的结构单元。

3.如权利要求1或2所述的可调平面阴极机构，其特征在于，所述移位组件包括驱动件、传动件和连接杆，所述连接杆的两端分别连接于所述传动件和对应的磁体组件，所述驱动件用于驱动所述传动件，所述传动件带动所述连接杆运动，从而使得所述连接杆带动所述磁体组件远离或靠近所述背板运动。

4.如权利要求3所述的可调平面阴极机构，其特征在于，所述连接杆连接于所述磁体组件的一端位于所述收容腔中，所述连接杆的另一端露出于所述阴极体基座的顶部。

5.如权利要求3所述的可调平面阴极机构，其特征在于，所述驱动件为电机，所述传动件为转向齿轮箱，所述驱动件的输出轴的轴向与所述连接杆的轴向垂直设置。

6.如权利要求3所述的可调平面阴极机构，其特征在于，所述磁体组件包括磁体座和磁体，所述磁体安装于所述磁体座上，所述磁体组件的磁体座连接于所述连接杆。

7.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括真空镀膜腔体和如权利要求1～6任一项所述的可调平面阴极机构，所述可调平面阴极机构设于所述真空镀膜腔体内，且所述多个移位组件安装于所述真空镀膜腔体的顶部。

8.如权利要求7所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述真空镀膜腔体内设有传送辊组件，所述传送辊组件位于所述可调平面阴极机构的下方，且与所述靶材相对设置；所述传送辊组件的传送方向与所述阴极体基座的长度方向垂直设置。

9.如权利要求7所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述真空镀膜装置还包括检测仪和控制装置，所述检测仪用于获取镀膜工件沿所述阴极体基座的长度方向上多个位置的镀膜厚度；所述控制装置用于根据所述多个位置的镀膜厚度，调节相应的移位组件带动对应的磁体组件远离或靠近所述背板运动。

10.如权利要求9所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述真空镀膜装置还包括进样腔体和用于所述检测仪检测的检测腔体，所述进样腔体和所述检测腔体分别能与所述真空镀膜腔体连通，且所述进样腔体、所述真空镀膜腔体和所述检测腔体依次位于所述传送辊组件的传送方向上。