[发明专利]一种利用能量法快速测量光纤出射焦比的系统有效

专利信息
申请号: 201710128176.9 申请日: 2017-03-06
公开(公告)号: CN107063634B 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 孙伟民;麻镇宇;闫奇;蒋航;耿涛;吴宇;赵蓉;张怀智;陈旭东;金夕人;赵丽媛 申请(专利权)人: 哈尔滨工程大学
主分类号: G01M11/00 分类号: G01M11/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 能量 快速 测量 光纤 焦比 系统
【说明书】:

发明属于光纤特性测量领域,具体为一种利用能量法快速测量光纤出射焦比的系统。本发明设定光纤出射焦比对应的能量占比,然后测量光纤出射总能量,再利用光阑限制透射光强,使光阑透射光强与光纤出射总光强之比为特定能量占比;沿光纤出射光轴移动光阑位置,并对应改变光阑孔径,将光阑孔径和位置进行线性拟合,直线的斜率即为设定能量占比的光纤出射焦比。本发明的一种利用能量法快速测量光纤出射焦比的系统,不用计算机图像处理的方法对光斑大小尺寸进行拟合,也不用测量CCD与光纤出射端的距离,直接利用能量法,通过控制光阑孔径和位置,获得任意设定能量占比的光纤出射焦比。

技术领域

本发明属于光纤特性测量领域,具体为一种利用能量法快速测量光纤出射焦比的系统。

背景技术

光纤出射焦比对于光纤天文光谱测量至关重要。现今望远镜系统朝着大口径、大视场的方向发展,口径越大,探测的宇宙空间就越深,观测到的天体也就越多。在早期的天文观测中,望远镜一次只能观测一个目标天体光谱,自从80年代光纤应用到望远镜系统后,可以同时观测多个目标的多目标光谱观测技术使得观测效率大大提高。一般多目标光谱观测主要是获得目标的一维光谱信息,而光纤利用到积分视场单元(IFU)技术中,可以获得三维光谱,即同时获得目标的两维位置信息和一维光谱信息。光纤成为一种重要的光传输介质,对望远镜的观测具有十分关键的作用。来自于星空的光非常薄弱,星光聚焦到望远镜的焦平面上,然后耦合进到光纤再传输到光谱仪或其他光学系统中。有效引导星光进入光谱天文望远镜的光纤中,提高光的利用率对光谱分析有非常重要的意义。在望远镜系统中,光纤数量可以达到几百甚至几千根的量级,因此光纤的传输特性和各项参数都对整个望远镜系统有重要影响。衡量光纤传光质量最重要的因素有两个:一个是光纤的光谱透过率,还有一个就是光纤的焦比退化特性。

光纤光谱透过率直接影响光纤的传输效率,天文观测中的波段范围覆盖广,因此需要光纤能满足在宽波段的广谱高传输率。除了光纤本身的透过率,光纤入射耦合与光纤出射能量的利用也会影响到传输效率。天文中对光纤入射光和出射光的描述引入了焦比的概念。对于一个理想凸透镜而言,当平行光平行于主光轴入射,出射光汇聚到焦点,此时出射光的焦比F定义为透镜的焦距f与透镜的口径D的比值:

F/#=f/D

在光纤中,定义光纤出射端的焦比为光纤端与接收面的距离和接收面上光斑直径的比值。

F/#=L/D

理想状态的直光纤,以一定张角入射的光,会以相同的张角出射,即入射焦比和出射焦比相同。而实际光纤出射光因为光纤的弯曲、受力、工艺缺陷等导致的出射张角会比入射光的张角大,即在距光纤端面相同距离位置处,出射光斑的直径会比入射光斑大,那么出射焦比要比入射焦比小,这种效应称为焦比退化(focal ratio degradation,FRD)。光纤焦比退化对天文望远镜的主要影响可以分为两部分,一部分是能量利用率的降低,另一部分是望远镜系统的设计难度和成本的增加。由于焦比退化表现为增大光纤出射光斑的直径,这使得光斑更发散,降低能量密度的分布,在相同口径的条件下,能收集到的光能量会进一步降低,同时由于天光本身很微弱,焦比退化会进一步降低利用率。另一方面,焦比退化会增大出射光的发散角,使得后端光谱仪的设计以及成像系统设计的难度和成本增加。对光纤的焦比退化特性进行研究有助于改进设计光谱分析系统。

光纤入射焦比的确定比较方便,可以直接利用入射端孔径光阑距离光纤入射端距离和孔径光阑直径之比来确定。而光纤出射端的出射焦比测量相对比较复杂,因为出射光类似于高斯分布,光斑没有严格的边界,因此如何确定光斑大小也是一项重要工作。从实际出发,对于出射光的能量利用主要集中在能量密度较大的区域,因此在实验中或者望远镜的设计中也主要考虑出射光斑能有效利用的光斑大小。目前国内外惯例是采用能量占比(Encircled Energy,即以光斑能量质心为圆心,以一定半径的圆内所包含的能量占光斑总能量的比值。如圆内能量占光斑总能量90%,则为EE90,以此类推)来测量光纤出射焦比。通常选取EE90或EE95,既可以比较逼近的计算出射光斑的实际光斑大小,而且还能有效降低测量系统暗电流和噪声的影响。

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