[发明专利]一种高透明低彩虹纹防刮光学弧面屏保护膜及制备方法

权利要求书

1.一种高透明低彩虹纹防刮光学弧面屏保护膜(100)，其特征在于，包括基底层及功能层；所述基底层为离型底膜层(10)，所述功能层沿远离所述基底层方向依次包括压敏硅胶层(20)、基膜层(30)、防刮涂层(40)、保护层(50)。

2.根据权利要求1所述的高透明低彩虹纹防刮光学弧面屏保护膜(100)，其特征在于，所述保护膜中，离型底膜层(10)的厚度为36-50μm，压敏硅胶层(20)的厚度为35-45μm，基膜层(30)的厚度为90-110μm，防刮涂层(40)的厚度为3-5μm，保护层(50)的厚度为36－50μm。

3.根据权利要求1或2所述的高透明低彩虹纹防刮光学弧面屏保护膜(100)，其特征在于，所述保护层(50)沿远离所述离型底膜层(10)方向依次包括保护胶层、保护层基层；所述保护胶层、保护层基层的厚度之比为1：(3-5)。

4.根据权利要求3所述的高透明低彩虹纹防刮光学弧面屏保护膜(100)，其特征在于，所述保护层基层的材质包括PET、PP、PE；所述保护胶层的材质为压敏胶。

5.根据权利要求1或2所述的高透明低彩虹纹防刮光学弧面屏保护膜(100)，其特征在于，所述防刮涂层(40)是紫外线固化的硬化涂层，其表面硬度≥2H，耐磨度达到1KG砝码#0000钢丝绒2000次无划痕，水滴度＞99°。

6.根据权利要求1或2所述的高透明低彩虹纹防刮光学弧面屏保护膜(100)，其特征在于，所述基膜层(30)的透光率＞90％，所述基膜层的选材为PET基材。

7.根据权利要求1或2所述的高透明低彩虹纹防刮光学弧面屏保护膜(100)，其特征在于，所述压敏硅胶层(20)的粘力在0-100g/inch；

所述压敏硅胶层(20)的原料种类及其重量含量为：有机聚硅氧烷80－100份，硅烷偶联剂0.5－0.8份，有机氢聚硅氧烷0.5－0.8份，铂金络合物催化剂0.8－1.0份。

8.根据权利要求1或2所述的高透明低彩虹纹防刮光学弧面屏保护膜(100)，其特征在于，所述离型底膜层(10)具体为含氟的聚甲基硅氧烷树脂膜。

9.一种根据权利要求1至8所述的高透明低彩虹纹防刮光学弧面屏保护膜(100)的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

在所述基膜层(30)的一侧涂布所述防刮涂层(40)、另一侧涂布压敏硅胶层(20)，再将离型底膜层(10)贴合在所述压敏硅胶层(20)上、将保护层(50)贴合在防刮涂层(40)上，形成保护膜结构；

将所述保护膜结构进行平切、热压、冲切成型即可。

10.根据权利要求9所述的高透明低彩虹纹防刮光学弧面屏保护膜(100)的制备方法，其特征在于，所述热压的条件为：350℃、3－5s。