[发明专利]一种单价选择性阴离子交换膜的制备方法

权利要求书

1.一种单价选择性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法在“四室三膜”膜改性装置中进行，所述“四室三膜”膜改性装置是由电极板A、阳离子交换膜A、待改性的阴离子交换膜、阳离子交换膜B、电极板B间隔排列构成电极室A、料液室、浓室和电极室B，其中待改性的阴离子交换膜的待改性面朝向料液室；

所述的制备方法包括：

(1)先往料液室中加入N-邻苯磺酸钠苯甲基壳聚糖和NaCl的混合溶液，其中N-邻苯磺酸钠苯甲基壳聚糖和NaCl的浓度分别为0.5～2g/L和0.1～1M，浓室中加入0.1～1M NaCl溶液，并通过电极液循环泵使0.1～1M Na₂SO₄溶液充满电极室A和电极室B，然后设置电脉冲参数，通电进行电脉冲沉积使N-邻苯磺酸钠苯甲基壳聚糖沉积到阴离子交换膜上；其中电脉冲参数为：直流脉冲，共1～1000个周期，每个周期1～10s，膜面的脉冲电流最大值为0～18mA/cm²，膜面的脉冲电流最小值为0mA/cm²；

(2)沉积一定时间后，将料液室中溶液替换为2-羟丙基三甲基氯化铵壳聚糖和NaCl的混合溶液，其中2-羟丙基三甲基氯化铵壳聚糖和NaCl的浓度分别为0.5～2g/L和0.1～1M，并交换两侧电流方向，保持电脉冲参数不变继续进行电脉冲沉积，使2-羟丙基三甲基氯化铵壳聚糖沉积到阴离子交换膜上；

(3)重复步骤(1)和步骤(2)的操作，从而使N-邻苯磺酸钠苯甲基壳聚糖和2-羟丙基三甲基氯化铵壳聚糖交替沉积到阴离子交换膜上，得到附着有多层NSBC/HACC的阴离子交换膜，其中NSBC/HACC双层改性层的层数为5-10个。

2.如权利要求1所述的单价选择性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：NSBC/HACC双层改性层的层数为8-10个。

3.如权利要求1所述的单价选择性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：电脉冲参数为：共450个周期；每个周期4s；膜面的脉冲电流最大值为7.5mA/cm²；膜面的脉冲电流最小值为0mA/cm²。

4.如权利要求1所述的单价选择性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：所述的“四室三膜”膜改性装置的电极板与电化学工作站中的电极连接，所述的电化学工作站由计算机系统控制。

5.如权利要求1所述的单价选择性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：所述的“四室三膜”膜改性装置中，电极板A、B是钌依电极板。

6.如权利要求1所述的单价选择性阴离子交换膜的制备方法，其特征在于：阳离子交换膜在电脉冲沉积前需进行预处理，先用超纯水漂洗，再将洗净后的膜浸泡于0.1～1M NaCl溶液中24小时待用。