[发明专利]湿法面接触柔性高效抛光机

说明书

本发明公开了一种湿法面接触柔性高效抛光机，包括机架，所述机架设有：磨抛模块，其包括环流磨机构及加水机构，所述环流磨机构包括：磨头支架；主轴；公转盘；公转电机；磨具模组，其包括磨具中轴、磨具基座、虚实结合弹性体和水磨碟；所述加水机构将外设的水源引至所述出水口往公转盘下方注出；所述机架上还设有输送模块。通过合理配置磨抛生产线上的各个机构，从而实现陶瓷石材的湿法面接触柔性高效抛光工序，使得磨块与工件表面一直保持面接触状态，有效提高加工效率，避免形成波纹面，相应地，减少加工单位时间也起到了节约用水的效果。磨抛生产线上的输送皮带稳定、不走偏，依托免修正耐磨底板能够贴合工件表面，降低损件率。

技术领域

本发明涉及陶瓷、石材、金属板等板材板面的抛光加工领域，特别涉及一种湿法面接触柔性高效抛光机。

背景技术

陶瓷石材的打磨抛光方法目前一般分为干法和湿法两种，其中湿法的磨抛生产线通常包括有磨抛模块、输送模块，磨抛模块包括磨头及注水设备等，输送模块将工件输送至磨头下方后，磨头下压并一般旋磨抛光一边注水冲刷及防扬尘，打磨抛光后工件再被送走。传统的抛光生产，目前均采用摆脚线接触式抛光机磨头结构，磨块采用“T”型磨块。这些传统的湿法抛光方式效率低、柔性差，磨块打磨时实质与工件表面是线接触，单位时间加工面积小，刮擦工件表面易形成波纹面，同时用水量大，甚至容易腐蚀相应设备，使设备功能衰退最后影响生产稳定。如今陶瓷石材生产需求量大，生产线负荷重，而市场上现有的一些较新颖的湿法抛光线，却又或多或少面临皮带走偏、防水不良、不能贴合工件表面磨抛导致损件率高等各种窘况，故市场迫切需要一种新的湿法抛光线来解决这些问题。

发明内容

本发明解决其技术问题的解决方案是：提供一种湿法面接触柔性高效抛光机，包括具有机台面的机架，所述机架的机台面上设有：

磨抛模块，其包括环流磨机构及加水机构，所述环流磨机构包括：

磨头支架，其跨设在机架上；

主轴，其竖直穿过磨头支架；

公转盘，其平放且中间位置与所述主轴的下段连接，公转盘设有出水口，且公转盘靠近边缘处设有若干个磨具模组安装位；

公转电机，其安装在主轴上段，通过带传动驱动主轴旋转；

磨具模组，其包括相应地竖立安装在所述磨具模组安装位上的磨具中轴，磨具中轴下端设有磨具基座，与磨具基座下部连接的虚实结合弹性体，以及位于虚实结合弹性体下方的水磨碟，所述虚实结合弹性体是弹性软垫构件，其具有当虚实结合弹性体弹性变形时能提供进退活动空间的虚位，所述水磨碟为圆形的碟片，所述碟片上以同心圆的结构设有若干圈打磨层，所述打磨层包括间隔设置的磨块和排屑槽，所述碟片上每一圈打磨层的磨块的数量相等，外一圈打磨层的磨块前端嵌入内一圈打磨层的排屑槽，外一圈打磨层的磨块与内一圈打磨层的磨块之间留有缝隙，且所述磨块为前窄后宽的流线型构件；

所述加水机构将外设的水源引至所述出水口往公转盘下方注出；

所述机架上还设有：

输送模块，其包括：

输送皮带，其为闭环，可回转地设置在机台面的上部和下部，所述磨抛模块位于输送皮带的上表面上方；

免修正耐磨底板，其平放地安装在机台面上，输送皮带的下表面对着所述免修正耐磨底板的上板面，免修正耐磨底板包括耐磨陶瓷块和整体平整的基板，所述耐磨陶瓷块紧密排列成耐磨陶瓷块板组，耐磨陶瓷块板组背面与所述基板正面之间通过粘结剂压合，所述基板上布有多个贯穿基板的溢流孔，粘结剂部分地漫溢入溢流孔内，所述基板是拉伸网板或冲孔网板。