[发明专利]一种涡旋式压缩机组件及其制造方法、及涡旋式压缩机

权利要求书

1.一种涡旋式压缩机组件，其特征在于，包括动涡旋件(1)和静涡旋件(2)；

所述动涡旋件(1)包括第一主体(11)，所述静涡旋件(2)包括第二主体(21)；定义所述第一主体(11)上与所述第二主体(21)相对的表面为第一表面，所述第二主体(21)上与所述第一主体(11)相对的表面为第二表面；

所述第一表面和所述第二表面处通过微弧氧化处理形成陶瓷层(3)，以减少所述动涡旋件(1)和所述静涡旋件(2)的工作磨损；

所述第一主体(11)和所述第二主体(21)均由铝合金材料制成，所述铝合金材料的组成成分包括(以重量百分数计)：9-14％Si、0.5-3％Cu、Mg≤1％，Fe＞1％、Zn≤0.8％、Ni≤0.5％，其余为Al；

所述陶瓷层(3)为铝氧化物层。

2.根据权利要求1所述的涡旋式压缩机组件，其特征在于，所述陶瓷层(3)的厚度为5-30μm。

3.根据权利要求2所述的涡旋式压缩机组件，其特征在于，所述陶瓷层(3)的厚度为10-20μm。

4.根据权利要求1-3任一项所述的涡旋式压缩机组件，其特征在于，所述陶瓷层(3)的截面维氏显微硬度不小于900HV。

5.根据权利要求1-3任一项所述的涡旋式压缩机组件，其特征在于，所述陶瓷层(3)的表面粗糙度不大于1μm。

6.根据权利要求5所述的涡旋式压缩机组件，其特征在于，所述陶瓷层(3)的表面经过抛光处理，抛光厚度为2-5μm。

7.根据权利要求1-3或6任一项所述的涡旋式压缩机组件，其特征在于，所述陶瓷层(3)的表面设置有润滑层(4)，所述润滑层(4)的表面粗糙度不大于1μm。

8.根据权利要求7所述的涡旋式压缩机组件，其特征在于，所述润滑层(4)的厚度为5-15μm。

9.根据权利要求7所述的涡旋式压缩机组件，其特征在于，所述润滑层(4)为有机硅层、聚四氟乙烯层或二硫化钼层中的一种。

10.一种涡旋式压缩机，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的涡旋式压缩机组件。

11.一种权利要求1-9任一项所述的涡旋式压缩机组件的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

对所述第一主体(11)的第一表面和所述第二主体(21)的第二表面进行微弧氧化处理，使所述第一表面处和所述第二表面处形成所述陶瓷层(3)。

12.根据权利要求11所述的涡旋式压缩机组件的制造方法，其特征在于，将所述第一主体(11)、和/或所述第二主体(21)置于电解液中进行微弧氧化处理，所述电解液的组成成分包括：

磷酸盐10-15g/L、钨酸2-5g/L、氢氧化钠0.2-1.5g/L、EDTA二钠1.5-5g/L。

13.根据权利要求12所述的涡旋式压缩机组件的制造方法，其特征在于，进行微弧氧化处理的反应条件为：

电源脉冲频率400-700Hz、脉冲占空比10-20％、电流密度2.5-6.5A/dm2、电压300-500V、微弧氧化时间为10-30min，所使用的电解液的温度为20-40℃。

14.根据权利要求11-13任一项所述的涡旋式压缩机组件的制造方法，其特征在于，还包括以下步骤：

对所述陶瓷层(3)进行抛光，使抛光后的所述陶瓷层(3)的表面粗糙度Ra不大于1μm。

15.根据权利要求14所述的涡旋式压缩机组件的制造方法，其特征在于，对所述陶瓷层(3)进行抛光的抛光厚度为2-5μm。

16.根据权利要求11-13或15任一项所述的涡旋式压缩机组件的制造方法，其特征在于，当包括润滑层(4)时，所述涡旋式压缩机组件的制造方法还包括以下步骤：

在所述陶瓷层(3)的表面烘烤固化形成所述润滑层(4)；所述润滑层(4)为有机硅层、聚四氟乙烯层或二硫化钼层中的一种；且使所述润滑层(4)的表面粗糙度不大于1μm，厚度为5-15μm。