[发明专利]用于样品制备和分析的自动化系统和方法

权利要求书

1.一种封闭的样品制备和分析系统，所述系统为包括位于单个壳体内的样品制备系统和样品分析系统的类型，所述样品制备系统包括样品制备站，所述封闭的样品制备和分析系统包括：

所述样品制备系统的离心器；以及

用于控制所述样品制备系统的操作的控制器，所述控制器还配置成参照一个或多个参数并根据选自于包含多项独特化验的数据库的化验来控制所述样品分析系统的一部分的操作；

其中，所述控制器被进一步配置成：

确定所述离心器在预定时间段内是否可用；

确定在所述样品制备和分析系统内是否有两个或多个器皿包含需要离心处理作为下一个样品制备步骤的样品；以及

如果所述离心器在所述预定时间段内可用，以及如果在所述样品制备和分析系统内有两个或多个器皿包含需要离心处理作为下一个样品制备步骤的样品，使所述样品制备站将所述两个或多个器皿装载到所述离心器内，并且随后操作所述离心器以使所述样品在所述器皿内进行离心处理。

2.根据权利要求1所述的封闭的样品制备和分析系统，其中，所述控制器进一步配置成根据所选化验来动态地重新配置所述样品分析系统的一部分。

3.根据权利要求1所述的封闭的样品制备和分析系统，其中，所述样品分析系统包括质谱仪。

4.根据权利要求1所述的封闭的样品制备和分析系统，其中，所述样品分析系统包括液相色谱质谱联用仪。

5.根据权利要求3所述的封闭的样品制备和分析系统，其中，所述一个或多个参数包括下述中的至少一个：电离电压、去溶剂化温度、镜电压、碰撞气体温度，或碰撞气体压力。

6.根据权利要求4所述的封闭的样品制备和分析系统，其中，所述一个或多个参数包括下述中的至少一个：流动相缓冲溶液的流速、流动相缓冲溶液的组分、含水流动相缓冲溶液与无水流动相缓冲溶液的比率，或改变所述含水流动相缓冲溶液与所述无水流动相缓冲溶液的比率的梯度。

7.根据权利要求1所述的封闭的样品制备和分析系统，其中，所述一个或多个参数包括下述中的至少一个：样品部分体积、将要使用的试剂、将要使用的所述试剂的体积、将要使用的基质干扰去除流程，或用于调度对样品的所述制备的逝去时间。

8.根据权利要求1所述的封闭的样品制备和分析系统，其中，所述控制器是第一控制器，所述系统还包括：

第二控制器，其配置成动态地且自动地改变用于样品分析系统的分析仪的一个或多个参数，所述第二控制器进一步配置成从所述第一控制器接收与用于所制备的样品的所选化验相关的数据，所述第二控制器配置成根据所选化验来动态地重新配置所述分析仪。

9.根据权利要求8所述的封闭的样品制备和分析系统，其中，所述数据表示下述中的至少一个：对所选化验的识别、对所制备的样品的体积的识别、对所制备的样品的识别，或对将被分析的一种或多种分析物的识别。

10.根据权利要求8所述的封闭的样品制备和分析系统，其中，所述第二控制器还配置成将指示对所制备的样品的分析的数据发送到所述第一控制器。

11.根据权利要求1所述的封闭的样品制备和分析系统，其中，所述控制器被进一步配置成：

分析与包含需要离心处理的样品的每个器皿相关联的测试的得到结果的剩余目标时间(RTTR)值；以及

如果有针对一个或多个器皿的相关联的RTTR值小于离心阈值，使所述样品制备站将所述一个或多个器皿装载到所述离心器内，以及随后以少于全满的状态操作所述离心器，以使一个或多个样品在所述一个或多个器皿内进行离心处理。