[发明专利]一种金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法在审
申请号: | 201710099404.4 | 申请日: | 2017-02-23 |
公开(公告)号: | CN106890994A | 公开(公告)日: | 2017-06-27 |
发明(设计)人: | 侯春树;张松;曾虹;高建芳 | 申请(专利权)人: | 深圳市卡德姆科技有限公司 |
主分类号: | B22F1/00 | 分类号: | B22F1/00 |
代理公司: | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙)11638 | 代理人: | 张廷利 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属 注塑 成型 烧结 酸性 气体 催化 脱脂 喂料 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及金属注塑成型烧结中喂料的制作方法技术领域,更具体地说,本发明涉及一种金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法。
背景技术
金属粉末注塑成型烧结工艺依脱脂方式不同可以区分为四大类别:(1)热脱脂系统:主要使用不同熔解温度的高分子材料;(2)溶剂脱脂系统:主要使用蜡基高分子;(3)水脱脂系统:主要使用聚乙二醇英文名polyethylene glycol简称PEG;(4)催化脱脂系统:主要使用聚甲醛树脂Polyoxymethylene(Polyformaldehyde)简称POM。
其中的催化脱脂系统系利用硝酸蒸气与聚甲醛树脂能反应产生苯类(CH2)。使产品表面逐渐反应分解的苯类产物,通过天然气燃烧形成CO2、NO2、H2O、CO、NO气体进入废气处理槽。
一般金属粉体的制造是使用水喷法或气喷法抑或两者合用。因此其表面易生成不同厚度的氧化层,随着氧化层厚度的增加其烧结温度越来越高且产品表面光泽度差。
另一方面某些特殊金属元素(如铜、钴等)易与硝酸或硝酸蒸气反应生成硝酸盐化合物进而阻碍后续烧结致密过程及表面光泽度问题,使得某些材料无法使用酸性催化脱脂方式进行。
发明内容
本发明的一个目的是解决至少上述问题,并提供至少后面将说明的优点。
本发明还有一个目的是提供了一种金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法,其通过在金属粉体表面涂布至少一层缓冲薄膜,使金属粉体可以避免接触氧气而氧化及接触硝酸等强酸而生成硝酸盐类,进而导致后续烧结致密性劣化及外观不良的现象。
为了实现上述目的,本发明提供了一种金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法,包括以下步骤:
步骤一、以金属粉体为原料,采用物理方式或者化学方式将高分子材料或者纳米级微粒包覆在金属粉体的表面,并在金属粉体表面形成至少一层缓冲薄膜层,以形成大粉团结构体;
步骤二、对所述大粉团结构体进行混炼,并在造粒机中造粒,从而得到酸性气体催化脱脂型喂料。
优选的是,所述的金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法中,所述物理方式包括涂布法、真空热蒸发法、直流溅射法、磁控溅射法、射频溅射法、脉冲激光沉积法以及分子束外延生长法。
优选的是,所述的金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法中,所述化学方式包括化学气相沉积法、液相生成法、氧化法、扩散法、电化学法以及溶胶凝胶法。
优选的是,所述的金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法中,所述步骤一中,将高分子材料进行加热融化,将金属粉体加入到加热融化的高分子材料中,以将所述高分子材料粘附在金属粉体表面,并形成一层缓冲薄膜层。
优选的是,所述的金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法中,所述步骤一中,以金属粉体为原料,将金属粉体和高分子材料置于溶剂中,经由喷雾干燥造粒机使溶剂蒸发并将高分子材料包覆在金属粉体的表面,并形成一层缓冲薄膜层。
优选的是,所述的金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法中,所述高分子材料为金属材料或陶瓷材料。
优选的是,所述的金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法中,还包括在缓冲薄膜层的外表面涂布一层高分子材料,以形成具有两层缓冲薄膜层的大粉团结构体。
优选的是,所述的金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法中,所述至少一层缓冲薄膜层的厚度不大于5μm。
优选的是,所述的金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法中,所述金属粉体的粒径分布为:D10不大于5μm,D50不大于15μm,D90不大于80μm。
优选的是,所述的金属注塑成型烧结用酸性气体催化脱脂型喂料的制作方法中,所述高分子材料与所述溶剂的体积比为1:9。
本发明利用薄膜成型技术将金属粉体表面产生一高分子或金属缓冲薄膜,以隔离金属粉体与氧气接触或与酸性气体反应生成硝酸盐类物质,进而影响后续烧结致密过程。
本发明主要目的是利用粉体表面包覆技术,以高分子或纳米级金属微粒包覆在金属粉体表面形成薄膜的过程。
薄膜生成方式可分为物理方式(PVD)及化学方式(CVD)。物理方式有涂布、真空热蒸发、直流溅射、磁控溅射、射频溅射、脉冲激光沉积、分子束外延生长法等。化学方式有化学气相沉积、液相生成法、氧化法、扩散法、电化学法等。
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