[发明专利]一种口字型高分子材料胶带加工用跳刀设备在审
申请号: | 201710094394.5 | 申请日: | 2017-02-23 |
公开(公告)号: | CN106892295A | 公开(公告)日: | 2017-06-27 |
发明(设计)人: | 张炎 | 申请(专利权)人: | 在贤电子(苏州)有限公司 |
主分类号: | B65H35/02 | 分类号: | B65H35/02;B65H35/00 |
代理公司: | 广州市红荔专利代理有限公司44214 | 代理人: | 关家强,吴伟文 |
地址: | 215122 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 字型 高分子材料 胶带 工用 设备 | ||
技术领域
本发明涉及一种口字型高分子材料胶带加工用跳刀设备,特别涉及一种高分子聚乙烯黑色双面耐高温胶带加工用的跳刀设备,属于高分子材料薄膜类产品加工领域。
背景技术
在高分子材料薄膜类产品加工领域,如膜材料、泡棉保护框、胶带生产等领域,有时候需要在一层膜上粘贴上胶条,以便其余膜层与其粘贴。现有的口字型框胶,在生产过程中常采用两种办法,办法一,整块模切法,即在贴条过程中采用整片材料口字型冲切,中间挖空后排除废料完成。该种方法将口字型中间的材料全部挖空,造成原材料的大面积浪费,制造成本高。
办法二,人工粘贴法,将两片L型裁片通过人工拼接起来,该方法虽然节省了加工材料,但是增加了人力成本,且由于操作工的熟练程度不同,人工对位会有歪斜,也会影响产品的质量。
发明内容
为了克服现有技术的缺点,节约口字型胶带的生产成本,节省原材料,提高口字型胶带的加工品质,本发明提供了一种口字型高分子材料胶带加工用跳刀设备。
本发明技术方案如下:
一种口字型高分子材料胶带加工用跳刀设备,包括机架和传输装置,所述传输装置上间隔设有压合装置,所述机架上横设有若干储料棒,所述机架底部设有导向装置,所述导向装置包括导向电机,所述压合装置包括第一压合装置、第二压合装置和第三压合装置,所述压合装置包括上转轮、下转轮以及固定支架,所述上转轮通过旋钮与固定支架相连接,所述下转轮由压合电机控制,所述导向电机的转速大于压合电机的转速。
作为优选的,所述机架底端设有底膜储料棒,所述底膜储料棒上悬挂有底膜卷,所述机架上端设有胶带储料棒,所述胶带储料棒上悬挂有胶带卷,所述底膜卷上的底膜经过导向装置到达传输装置,所述胶带卷上的胶带一次经过第一压合装置和第二压合装置到达输送装置,所述底膜由单面涂布网格亚克力胶水的高分子薄膜制成,所述胶带为高分子聚乙烯黑色双面耐高温胶带。
作为优选的,所述传输装置包括若干滚轮,位于第二压合装置和第三压合装置之间的传输装置上设有第一切刀,所述第一切刀刀刃部分朝向胶带始发的方向并向下与水平面呈一锐角,所述第二压合装置的上转轮上设有模具刀。
作为优选的,所述第一压合装置、第二压合装置和第三压合装置的侧面均设有宽度调节旋钮,用于调节同一压合装置左右两侧的宽度。
作为优选的,所述跳刀设备的前端设有辅助上料机构,所述辅助上料机构上设有压料片。
作为优选的,所述跳刀设备的末端设有支撑滚轮,所述支撑滚轮通过连接滑块与机架相连接,所述连接滑块上设有凹槽,所述连接滑块通过旋转螺丝穿过凹槽与机架相连接。
作为优选的,所述机架顶端还设有第二切刀。
作为优选的,所述机架上设有电路控制箱。
本发明有益效果在于:具有加工质量高,节省原材料,降低成本,生产效率高的优点。具体如下:1)底膜卷上的底膜经过导向装置到达传输装置,胶带卷上的胶带依次经过第一压合装置和第二压合装置到达输送装置,在第二压合装置的上转轮上设有模具刀,通过转轮的转动,模具刀对胶带进行切割,并形成若干矩形条,并且由于导向电机的转速大于压合电机的转速,使得底膜的传输速率大于胶带的传输速率,经过简单的计算并设置两者转速,达到每间隔一定的距离,条状矩形胶带落在底膜上,并传输出去;从而自动的实现口字形胶带的两条边的加工,2)在第二压合装置和第三压合装置之间的传输装置上设有第一切刀,所述第一切刀刀刃部分朝向胶带始发的方向并向下与水平面呈一锐角,使得被且成矩形条的胶带与底膜在刀被部分相遇,由于胶带粘性部分朝下,进而粘贴到底膜上,由底膜带动继续向前运动;3)本发明具有较高的适用性,第一压合装置、第二压合装置和第三压合装置的侧面均设有宽度调节旋钮,可根据需要调节同一压合装置左右两侧的宽度,同时跳刀设备的前端设有辅助上料机构,所述辅助上料机构上设有压料片,在产品层数比较多的情况下,从前端设置上料机构,辅助上料机构起导向作用,4)所述支撑滚轮通过连接滑块与机架相连接,所述连接滑块上设有凹槽,所述连接滑块通过旋转螺丝穿过凹槽与机架相连接,凹槽可以以旋转螺丝为中心进行旋转运动或上下滑动,从而调整支撑滚轮的位置。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明的结构示意图。
图2是本发明另一方向的结构示意图。
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