[发明专利]改变光路的方法,和应用于改变光路的光栅的制作方法在审

专利信息
申请号: 201710090062.X 申请日: 2017-02-20
公开(公告)号: CN108459366A 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 高宇琦 申请(专利权)人: 中兴通讯股份有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 江舟;董文倩
地址: 518057 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光路 光波 光栅 衍射 曲线型 微米级 棱镜 制作 应用 传输过程 光波衍射 光路转折 光栅衍射 预先制作 耦合率 预设 替代 保证
【权利要求书】:

1.一种改变光路的方法,其特征在于,包括:

在光波导上,通过曲线型光栅将待衍射光波衍射生成为与所述待衍射光波的夹角为预设角度的衍射光波。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述曲线型光栅在面向所述待衍射光波的入射方向一侧内凹。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述曲线型光栅根据曲线型光栅模型确定,其中,所述曲线型光栅模型从根据预设参数建立的仿真模型中获取,所述曲线型光栅模型模拟衍射光波时的光波耦合效率不小于80%。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述预设参数包括以下至少之一:

所述光波导的折射率参数,所述光波导的衬底的折射率参数,所述待衍射光波的波长,所述预设角度。

5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述曲线型光栅根据曲线型光栅模型确定,包括:

采用全息图像法在所述光波导上刻出所述曲线型光栅。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,采用全息图像法在所述光波导上刻出所述曲线型光栅的方式包括以下之一:

使用全息图像法在所述光波导上生成线性光栅,在所述线性光栅的上下两侧和面向所述待衍射光波的方向加压,生成面向所述待衍射光波的入射方向一侧内凹的曲线型光栅;

在所述光波导上方设置有凸起的遮光片,使用全息图像法在设置有所述遮光片的光波导上生成面向所述待衍射光波的入射方向一侧内凹的曲线型光栅。

7.根据权利要求1-6任一项所述的方法,其特征在于,所述曲线型光栅为曲线型啁啾光栅。

8.一种应用于改变光路的光栅的制作方法,其特征在于,包括:

依据预设参数建立仿真模型,通过所述仿真模型获取曲线型光栅模型,其中,所述曲线型光栅模型模拟衍射光波时的光波耦合效率不小于80%;

根据所述曲线型光栅模型在光波导制作所述曲线型光栅。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述预设参数包括以下至少之一:

所述光波导的折射率参数,所述光波导的衬底的折射率参数,待衍射光波的波长,待衍射光波的待改变角度。

10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,根据所述曲线型光栅模型在光波导制作所述曲线型光栅包括以下至少之一:

使用全息图像法在所述光波导上生成线性光栅,在所述线性光栅的上下两侧和面向待衍射光波的方向加压,生成面向所述待衍射光波的入射方向一侧内凹的曲线型光栅;

在所述光波导上方设置有凸起的遮光片,使用全息图像法在设置有所述遮光片的光波导上生成面向所述待衍射光波的入射方向一侧内凹的曲线型光栅。

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