[发明专利]用于分析微孔的光学器件

权利要求书

1.一种光学测量装置（10），包括：

限定样本平面的样本保持器（1），其中，所述样本保持器（1）被构造成布置样本载体，所述样本载体包括在所述样本平面中的测量位置阵列；

照明单元（2a），其被构造成照亮所述样本平面；

检测器（4）；

光学成像系统（3），其被构造成将包括所述测量位置阵列的样本平面成像到所述检测器（4）上，

其中，所述光学成像系统（3）包括两个以上曲面反射元件（31；32），所述两个以上曲面反射元件（31；32）适于以在2:1和1:2之间的放大率将所述样本平面成像到所述检测器（4）上，以及

其中，所述检测器（4）被构造成一次获取所述测量位置阵列中所有测量位置的图像，

其特征在于：

所述照明单元（2a）被构造成透射照明单元。

2.根据权利要求1所述的光学测量装置，其中，所述两个以上曲面反射元件（31；32）包括两个以上曲面反射镜元件。

3.根据权利要求1所述的光学测量装置，其中，所述两个以上曲面反射元件（31；32）以奥夫纳型构造布置。

4.根据权利要求2所述的光学测量装置，其中，所述两个以上曲面反射元件（31；32）以奥夫纳型构造布置。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学测量装置，其中，所述光学成像系统（3）的放大率在1.2:1和1:1.2之间。

6.根据权利要求5所述的光学测量装置，其中，所述放大率基本为1。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的光学测量装置，其中，所述照明单元（2a）被构造成在临界照明条件下照亮所述样本平面。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的光学测量装置，其中，所述照明单元（2a）包括均化器，所述均化器适于增加所述样本平面中的照明均匀性。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的光学测量装置，其中，所述照明单元（2a）被构造成使得所述照明单元的输出数值孔径大于所述成像系统（3）的数值孔径。

10.根据权利要求1至4中任一项所述的光学测量装置，其中，所述样本载体是微孔板。

11.根据权利要求1至4中任一项所述的光学测量装置，其中，所述检测器（4）包括多个像素，所述像素的像素尺寸小于测量位置的面积。

12.根据权利要求1至4中任一项所述的光学测量装置，其中，所述光学测量装置（10）是PCR系统（100）的一部分。

13.一种用于对样本载体进行成像的方法，所述样本载体具有包含样本的测量位置阵列，所述方法包括：

用照明单元（2a）照亮所述测量位置阵列；

一次性收集从所述测量位置阵列中的所有测量位置发射的光；

通过使用两个以上曲面反射元件将所收集的光成像到检测器上，所述曲面反射元件适于以在2:1和1:2之间的放大率将所述样本平面成像到所述检测器上，

其特征在于：

所述照明单元（2a）被构造成透射照明单元。