[发明专利]一种基于二次成像原理的点源目标及干扰模拟系统

权利要求书

1.一种基于二次成像原理的点源目标及干扰模拟系统，其特征在于所述系统由光学耦合系统、照明光学系统、高温黑体、合束器、目标光阑组件、能量控制组件、干扰光阑组件、旋转反光镜、干扰通道旋转机构和遮挡板组成，其中：

所述的光学耦合系统由成像镜组、目标成像镜组和干扰成像镜组组成；

所述的照明光学系统由目标照明光学系统和干扰照明光学系统构成；

所述的高温黑体包括第一高温黑体和第二高温黑体；

所述的目标光阑组件由目标光阑片组件和驱动电机组成；

所述的目标光阑片组件由一片有三角形缺口的矩形金属片与另一相同大小的矩形金属片对接组成；

所述的能量控制组件由渐变衰减片和驱动电机组成；

所述的渐变衰减片为圆形薄板，薄板上平均分出若干扇形，每个扇形透过率均不同；

所述的能量控制组件包括第一能量控制组件和第二能量控制组件；

所述的干扰光阑组件由干扰光阑和驱动电机组成；

所述的干扰光阑为圆形薄板，在圆形薄板上分为若干扇形区域，在不同扇形区域中心位置沿薄板半径方向并排打上数量、大小均不同的小孔；

所述的第一高温黑体、目标照明光学系统、第一能量控制组件、目标光阑组件构成目标通道；

所述的第二高温黑体、干扰照明光学系统、第二能量控制组件、干扰光阑组件、旋转反光镜、干扰通道旋转机构和遮挡板构成干扰通道；

所述的干扰通道旋转机构用于旋转干扰通道，模拟干扰旋转及干扰释放方向；

所述目标通道由一次成像完成，第一高温黑体发出红外辐射，经目标照明光学系统进入第一能量控制组件成像，然后经过目标光阑组件由光学耦合系统成像到无限远处；

所述干扰通道采用二次成像原理，第二高温黑体发出红外辐射，经干扰照明光学系统进入第二能量控制组件后第一次成像，经过干扰光阑组件、旋转反光镜、遮挡板后第二次成像，然后由光学耦合系统成像到无限远处。

2.根据权利要求1所述的基于二次成像原理的点源目标及干扰模拟系统，其特征在于所述的干扰光阑组件位于干扰通道一次成像位置。

3.根据权利要求1所述的基于二次成像原理的点源目标及干扰模拟系统，其特征在于所述的旋转反光镜由反光镜和驱动电机组成。

4.根据权利要求1所述的基于二次成像原理的点源目标及干扰模拟系统，其特征在于所述的遮挡板位于干扰通道二次成像位置。