[发明专利]PI型高频高速传输用双面铜箔基板及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710085366.7 申请日: 2017-02-17
公开(公告)号: CN108454192B 公开(公告)日: 2020-01-14
发明(设计)人: 杜伯贤;李韦志;李莺;林志铭;李建辉 申请(专利权)人: 昆山雅森电子材料科技有限公司
主分类号: B32B15/08 分类号: B32B15/08;B32B27/28;B32B7/10;B32B37/12;B32B37/10;B32B37/06;B32B38/16;H05K1/03;H05K3/02
代理公司: 32312 苏州周智专利代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 周雅卿
地址: 215300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 低介 电胶 低轮廓 铜箔层 上极 芯层 双面铜箔基板 高频高速 机械性能 聚酰亚胺系树脂 低热膨胀系数 聚酰亚胺膜 磷系耐燃剂 从上到下 低吸水率 二氧化硅 氟系树脂 高速传输 湿度环境 钻孔能力 传输 烧结 反弹力 铁氟龙 吸水率 电性 镭射 制备 配方 组装
【说明书】:

发明公开了一种PI型高频高速传输用双面铜箔基板,从上到下依次包括第一低轮廓铜箔层、上极低介电胶层、芯层、下极低介电胶层和第二低轮廓铜箔层,其中芯层为聚酰亚胺膜,第一、二低轮廓铜箔层的Rz值为0.4‑1.0μm,上极低介电胶层和下极低介电胶层的配方中含有聚酰亚胺系树脂、烧结二氧化硅、铁氟龙、氟系树脂和磷系耐燃剂,使其Dk值为2.0‑3.0(10GHz),且Df值为0.002‑0.010(10GHz),而且第一、二低轮廓铜箔层、上极低介电胶层、芯层和下极低介电胶层所构成的叠构的接着强度>0.7kgf/cm,且吸水率为0.01‑1.5%。故本发明不但电性良好,而且具备高速传输性、低热膨胀系数、在高温湿度环境下稳定的dk/df性能、超低吸水率、良好的UV镭射钻孔能力、适合高密度组装的低反弹力以及极佳的机械性能。

技术领域

本发明涉及FPC(柔性线路板)用双面铜箔基板及其制备技术领域,特别涉及一种PI(聚酰亚胺)型高频高速传输用双面铜箔基板。

背景技术

随着信息技术的飞跃发展,为满足信号传送高频高速化、散热导热快速化以及生产成本最低化,各种形式的混压结构多层板的设计与应用应运而生。印刷电路板是电子产品中不可或缺的材料,而随着消费性电子产品需求增长,对于印刷电路板的需求也是与日俱增。由于软性印刷电路板(FPC,Flexible Printed Circuit)具有可挠曲性及可三度空间配线等特性,在科技化电子产品强调轻薄短小、可挠曲性、高频率的发展驱势下,目前被广泛应用于计算机及其外围设备、通讯产品以及消费性电子产品等。

在高频领域,无线基础设施需要提供足够低的插损,才能有效提高能源利用率。随着5G通讯、毫米波、航天军工的加速发展,高频高速FPC(柔性电路板)/PCB(印刷电路板)需求业务来临,随着大数据、物联网等新兴行业兴起以及移动互连终端的普及,快速地处理、传送信息,成为通讯行业重点。在通讯领域,未来5G网络比4G拥有更加高速的带宽、更密集的微基站建设,网速更快。应物联网与云端运算以及新时代各项宽频通讯之需求,发展高速伺服器与更高传输速度的手机已成市场之趋势。一般而言,FPC/PCB是整个传输过程中主要的瓶颈,若是欠缺良好的设计与电性佳的相关材料,将严重延迟传输速度或造成讯号损失。这就对电路板材料提出了很高的要求。此外,当前业界主要所使用的高频基板主要为LCP(液晶)板、PTFE(聚四氟乙烯)纤维板,然而也受到制程技术的限制,对制造设备的要求高且需要在较高温环境(>280℃)下才可以操作,随之也造成了其膜厚不均匀,而膜厚不均会造成电路板的阻抗控制不易;此外,又面临了不能使用快压机设备,导致加工困难等问题。而其它树脂类膜虽然没有上述问题,但面临电性不佳、接着力太弱或者机械强度不好等问题。

一般的环氧树脂系产品,于下游产业的小孔径(<100μm)UV(紫外线)镭射加工下表现并不理想,容易造成通孔(PTH,Plating Through Hole)孔洞内缩,只适合采用在较大孔径的机械钻孔的方式,工艺适应性较差。

此外,在多层板及软硬结合板的制备时,由于一般PI型及TPI型铜箔基板的高吸水性,达到1-2%,会造成爆板问题,严重影响了良率。

在成本、效能及作业性方面,LCP、TPI(热塑性聚酰亚胺)法制备高频基板,生产需高温压合,压合温度在280-330℃之间,特别是在生产传输性能较优的38um以上厚度产品时,效率低,成本高。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种PI型高频高速传输用双面铜箔基板,本发明不但电性良好,同时具备高速传输性、低热膨胀系数、在高温湿度环境下稳定的dk/df性能、超低吸水率、良好的UV镭射钻孔能力、适合高密度组装的低反弹力以及极佳的机械性能,而且可挠性佳、耐焊锡性高、接着强度佳和尺寸安定性佳,适用于UV镭射的小于100微米的小孔径加工,膜厚均匀,阻抗控制良好;另外,涂布法当前技术最多只能涂50微米左右的厚度,本发明的制备方法可以轻易得到100微米以上的厚膜。

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