[发明专利]发光装置有效

专利信息
申请号: 201710083608.9 申请日: 2017-02-16
公开(公告)号: CN107204392B 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 金利受;金东赞;朴应晳;尹元珉;李炳德;朱容赞 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L33/04 分类号: H01L33/04;H01L33/36
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 王东贤;朴圣洁
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 装置
【权利要求书】:

1.一种发光装置,其包含:

第一电极;

与所述第一电极相对的第二电极;

在所述第一电极与所述第二电极之间的发光层,所述发光层包含量子点;和

在所述发光层与所述第二电极之间的无机层,所述无机层包含金属卤化物,其中所述金属卤化物包含镉卤化物、汞卤化物、锰卤化物、铁卤化物、钴卤化物、镍卤化物、锌卤化物或其任何组合,

其中所述无机层进一步包含选自Al3+和Ga3+的至少一种三价金属离子,并且

所述无机层具有至的厚度。

2.如权利要求1所述的发光装置,其中所述金属卤化物包含镉氟化物、汞氟化物、锰氟化物、铁氟化物、钴氟化物、镍氟化物、锌氟化物或其任何组合。

3.如权利要求1所述的发光装置,其中所述金属卤化物包含CdF2、HgF2、MnF2、FeF2、CoF2、NiF2、ZnF2或其任何组合。

4.如权利要求1所述的发光装置,其中所述金属卤化物包含FeF2

5.如权利要求1所述的发光装置,其中所述金属卤化物掺杂有所述三价金属离子。

6.如权利要求1所述的发光装置,其中所述金属卤化物具有3.1eV至4.6eV的能带隙。

7.如权利要求1所述的发光装置,其中所述金属卤化物具有700℃至1400℃的熔点。

8.如权利要求1所述的发光装置,其中所述量子点具有包含以下的核壳结构:包含第一半导体晶体的核和包含第二半导体晶体的壳。

9.如权利要求8所述的发光装置,其中所述第一半导体晶体的第一半导体和所述第二半导体晶体的第二半导体各自独立地包含包括第12族元素和第16族元素的化合物、包括第13族元素和第15族元素的化合物、包括第14族元素和第16族元素的化合物或其任何组合。

10.如权利要求8所述的发光装置,其中所述第一半导体晶体的第一半导体和所述第二半导体晶体的第二半导体各自独立地包含CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、HgTe、CdSTe、GaP、GaAs、GaSb、InP、InAs、InSb、PbS、PbSe、PbTe或其任何组合。

11.如权利要求8所述的发光装置,其中所述第一半导体晶体的第一半导体包含CdSe、CdTe、ZnSe、InP、InAs、PbS、PbSe、PbTe或其任何组合,并且所述第二半导体晶体的第二半导体包含ZnSe、ZnS、CdS、HgS、GaAs或其任何组合。

12.如权利要求8所述的发光装置,其中所述第二半导体晶体的第二半导体具有的能带隙等于或大于所述第一半导体晶体的第一半导体的能带隙。

13.如权利要求1所述的发光装置,其中所述发光装置进一步包含在所述第一电极下方的基板、空穴传输区和电子传输区,其中所述第一电极为阳极,所述第二电极为阴极,所述空穴传输区在所述第一电极与所述发光层之间,所述电子传输区在所述第二电极与所述发光层之间,并且所述无机层在所述电子传输区中。

14.一种发光装置,其包含:

第一电极;

与所述第一电极相对的第二电极;

在所述第一电极与所述第二电极之间的发光层,所述发光层包含量子点;和

在所述发光层与所述第一电极之间的无机层,所述无机层包含金属卤化物,其中所述金属卤化物包含镉卤化物、汞卤化物、锰卤化物、铁卤化物、钴卤化物、镍卤化物、锌卤化物或其任何组合,

其中所述发光装置进一步包含在所述第一电极下方的基板、电子传输区和空穴传输区,其中所述第一电极为阴极,所述第二电极为阳极,所述电子传输区在所述第一电极与所述发光层之间,所述空穴传输区在所述第二电极与所述发光层之间,并且所述无机层在所述电子传输区中,

其中所述无机层进一步包含选自Al3+和Ga3+的至少一种三价金属离子,

所述无机层具有至的厚度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710083608.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top