[发明专利]光学防伪元件及光学防伪产品

权利要求书

1.一种光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件包括：

基材，该基材包括彼此相对的第一表面和第二表面；

布置在所述第一表面的至少部分区域上的多个微反射单元，每一个所述微反射单元由一组转角不同的微反射面形成；以及

布置在所述第一表面的至少同形覆盖在所述一个或多个微反射单元上的反射性镀层，

其中，所述转角的取值在0°至360°内均匀的分布。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微反射单元为由一组倾角相同但转角不同的微反射面形成的倒立圆锥的内侧面。

3.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于，所述倾角的取值范围为0°至30°。

4.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于，所形成的所述倒立圆锥的半径范围为3μm至30μm。

5.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于，所形成的所述倒立圆锥的高度范围为0μm至10μm，优选地，所述高度范围为0μm至5.77μm。

6.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微反射单元为由一组转角不同的微反射面形成的正多面体，优选地，形成该正多面体的所述微反射面的数目大于或等于4。

7.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述防伪元件还包括：

覆盖在至少部分所述多个微反射单元上的亚波长结构，所述反射性镀层同形覆盖该亚波长结构。

8.根据权利要求7所述的光学防伪元件，其特征在于，所述亚波长结构的起伏范围为30nm至300nm。

9.根据权利要求7所述的光学防伪元件，其特征在于，所述亚波长结构的周期范围为100nm至500nm。

10.根据权利要求7至9中任意一项权利要求所述的光学防伪元件，其特征在于，所述多个微反射单元上覆盖所述亚波长结构的区域与未覆盖所述亚波长结构的区域之间具有镂空区域。

11.根据权利要求10所述的光学防伪元件其特征在于，所述镂空区域与所述覆盖所述亚波长结构的区域精准对位，优选地，所述对位误差小于50μm。

12.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述反射性镀层为以下中的一者或任意组合：单层金属镀层、多层金属镀层、由吸收层、低折射率介质层和反射层形成的镀层、高折射率介质层镀层、由第一高折射率介质层、低折射率介质层和第二高折射率介质层依次堆叠形成的多介质层镀层、以及由吸收层、高折射率介质层和反射层依次堆叠形成的镀层。

13.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述基材为由以下材料中的任意一者构成的对可见光透明的有色或无色薄膜：

聚对苯二甲酸二醇酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚丙烯、金属、玻璃以及纸张。

14.一种光学防伪产品，其特征在于，包括根据权利要求1至13中任意一项权利要求所述的光学防伪元件。