[发明专利]图形密度计算方法在审
申请号: | 201710079130.2 | 申请日: | 2017-02-14 |
公开(公告)号: | CN106780600A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 金晓亮;袁春雨 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | G06T7/62 | 分类号: | G06T7/62;G06T5/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 屈蘅 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图形 密度 计算方法 | ||
1.一种图形密度计算方法,包括:
根据采样率确定图形的采样区域;
沿图形边界扫描,建立小波变换索引;
计算小波变换每个子块与图形边界相交的面积,获得子块系数;
根据子块系数构建各阶小波变换矩阵;
将各阶小波变换矩阵依次相加,得到不同级次下的图形密度分布。
2.如权利要求1所述的图形密度计算方法,其特征在于,所述小波变换为二维哈尔小波变换。
3.如权利要求2所述的图形密度计算方法,其特征在于,在沿图形边界扫描,建立小波变换索引之前,建立正交基函数。
4.如权利要求3所述的图形密度计算方法,其特征在于,所述正交基函数为Ψ(0,0),Ψ(1,0),Ψ(0,1),Ψ(1,1)。
5.如权利要求4所述的图形密度计算方法,其特征在于,在建立正交基函数之后,在沿图形边界扫描,建立小波变换索引之前,还包括:
删减展开后为0的基函数Ψ(1,1)。
6.如权利要求2所述的图形密度计算方法,其特征在于,对于大于10级小波变换的采样区域,进行分割采用多处理器并行计算。
7.如权利要求6所述的图形密度计算方法,其特征在于,所述10级小波的采样区域范围为边长5000μm的正方形。
8.如权利要求2所述的图形密度计算方法,其特征在于,通过计算采样区域中图形边界和小波变换的交点的值计算所述面积。
9.如权利要求1所述的图形密度计算方法,其特征在于,所述计算小波变换每个子块与图形边界相交的面积采用多处理器并行计算。
10.如权利要求1所述的图形密度计算方法,其特征在于,所述采样区域为若干条边围成的封闭图形。
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