[发明专利]测量高度校正规则生成装置及方法、高度测量装置及方法

权利要求书

1.一种测量高度校正规则生成方法，包括如下步骤：

获取包含样品上的一个以上的位置的距基准面的高度的第一数据；

生成包含针对第一位置的高度的比例因子的第一掩码，其中，针对所述第一位置的高度的比例因子基于作为所述一个以上的位置中的任意一个的所述第一位置的高度和基准高度之间的相对关系来确定；

生成包含针对所述第一位置的高度的第一校正规则的第二掩码，其中，针对所述第一位置的高度的第一校正规则基于所述第一位置的高度和与所述第一位置相邻的一个以上的第二位置的高度之间的相对关系来确定；

计算出所述第一位置的高度和与所述第一位置处于预设关系的第三位置的高度的比率，并生成包含针对所述第一位置的高度的第二校正规则的第三掩码，其中，针对所述第一位置的高度的第二校正规则基于计算出的所述比率和平均比率之间的相对关系来确定。

2.如权利要求1所述的测量高度校正规则生成方法，其中，

在生成所述第二掩码的步骤中，生成针对第二数据的第二掩码，所述第二数据是对所述第一数据适用所述第一掩码的数据。

3.如权利要求2所述的测量高度校正规则生成方法，其中，

在生成所述第三掩码的步骤中，生成针对第三数据的第三掩码，所述第三数据是对所述第二数据适用所述第二掩码的数据。

4.如权利要求1所述的测量高度校正规则生成方法，其中，

所述基准高度是从所述样品的基准面的高度，

生成所述第一掩码的步骤包括如下步骤：

以所述第一位置的高度与所述比例因子之积对应于所述基准高度的方式确定所述第一位置的比例因子；以及

生成包含所述一个以上的位置各自的比例因子的所述第一掩码。

5.如权利要求1所述的测量高度校正规则生成方法，其中，

生成所述第二掩码的步骤包括如下的步骤：

计算作为所述一个以上的第二位置的高度的平均值的平均高度；

在所述第一位置的高度和所述平均高度之差为临界差以上的情况下，生成将所述第一位置的高度替换为所述平均高度的第一校正规则；以及

生成包含所述一个以上的位置各自的第一校正规则的所述第二掩码。

6.如权利要求5所述的测量高度校正规则生成方法，其中，

所述第二位置包括：沿着第一方向及第一方向的反方向而与所述第一位置相邻的两个位置；及

沿着第二方向及第二方向的反方向而与所述第一位置相邻的两个位置，

在计算所述平均高度的步骤中，

将包含在所述第二位置的四个位置的高度的平均值计算为所述平均高度，

所述第一方向及所述第二方向互相垂直。

7.如权利要求1所述的测量高度校正规则生成方法，其中，

生成所述第三掩码的步骤包括如下的步骤：

以所述样品上的第一方向或第二方向的基准线为基准而计算出所述第一位置的高度和位于与所述第一位置线对称的位置的第三位置的高度的比率；

在计算出的所述比率与所述平均比率之差为临界差以上的情况下，基于所述平均比率及所述第三位置的高度来计算出校正高度；

在计算出的所述比率与所述平均比率之差为临界差以上的情况下，生成将所述第一位置的高度替换为所述校正高度的所述第二校正规则；

生成包含所述一个以上的位置各自的第二校正规则的所述第三掩码。

8.如权利要求7所述的测量高度校正规则生成方法，其中，

所述平均比率是以所述样品上的第一方向或第二方向的基准线为基准而对称的多个对称对的高度的比率的平均值。