[发明专利]一种减小激光熔覆后工件形变量的方法有效

专利信息
申请号: 201710075593.1 申请日: 2017-02-13
公开(公告)号: CN106808087B 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 周成林;司松海;王安 申请(专利权)人: 江苏华博数控设备有限公司
主分类号: B23K26/064 分类号: B23K26/064;B23K26/067;B23K26/21
代理公司: 淮安市科文知识产权事务所 32223 代理人: 冯晓昀;谢观素
地址: 223100 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 减小 激光 熔覆后 工件 形变 方法
【权利要求书】:

1.一种减小激光熔覆后工件形变量的方法,其特征在于包括以下步骤:

步骤i:两个叠阵半导体激光器(1)出光口向下并列排放,两束不同功率的激光在同一竖直面内以同一方向平行出射;

步骤ii:两束激光的平行光束分别经过聚焦镜(2)聚焦;

步骤iii:在第二束激光的光束经过聚焦后的光路上设有一组反射镜组(3),通过反射镜组(3)的反射作用改变第二束激光的聚焦位置,并根据工作面上两光斑边缘间隔尺寸大小的要求,调节反射镜组(3)的相对位置和相对夹角,最终实现两路激光的光束聚焦作用到同一工作面(4)上;所述工作面(4)上的两光斑均为矩形光斑,且第一束激光的光斑尺寸小于第二束激光的光斑尺寸,第一束激光的功率密度大于第二束激光的功率密度;首先利用一个小尺寸光斑进行激光熔覆加工,后采用一个大尺寸光斑对小光斑熔覆加工后熔池边缘形成的凹陷区进行二次加工,使熔覆后的材料表层二次熔化。

2.根据权利要求1所述的一种减小激光熔覆后工件形变量的方法,其特征在于:两个半导体激光器(1)的激光输出功率范围均在1000W~3000W的范围内。

3.根据权利要求1所述的一种减小激光熔覆后工件形变量的方法,其特征在于:所述步骤ii中,所述聚焦镜(2)为球面透镜、非球面透镜或者两个分离的柱面镜。

4.根据权利要求1所述的一种减小激光熔覆后工件形变量的方法,其特征在于:所述步骤iii中,第二束激光的光路上所述的反射镜组(3)均镀有对应波长的高反膜,其反射率均在99%以上。

5.根据权利要求1所述的一种减小激光熔覆后工件形变量的方法,其特征在于:所述步骤iii中,所述反射镜组(3)包括两片成角度放置的反射镜。

6.根据权利要求1-5其中任意一项所述的一种减小激光熔覆后工件形变量的方法,其特征在于:所述步骤iii中,工作面(4)上的两光斑边缘间隔尺寸根据加工材料形状而定,可通过改变反射镜组(3)相对位置或直接移动第二个半导体激光器调整第二束激光的光斑与第一束激光的光斑的边缘间隔及照射角度。

7.根据权利要求1-5其中任意一项所述的一种减小激光熔覆后工件形变量的方法,其特征在于;两个半导体激光器(1)的波长范围均在400nm~2000nm的范围内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏华博数控设备有限公司,未经江苏华博数控设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710075593.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top