[发明专利]一种基板的抛光装置

说明书

一种基板的抛光装置，其包括：基座，所述基座支承抛光部，所述基座上设置有放置所述基板的抛光垫；抛光部，其包括与所述基板接触的抛光板，所述抛光板设置于所述基座上且位于所述抛光垫的上方；驱动部，所述驱动部固定在所述基座上，所述驱动部驱动所述抛光部运动；通过所述抛光板的直线往复运动可对置于所述抛光垫内任意尺寸的所述基板进行抛光。本发明的基板的抛光装置，采用直线往复运动的形式对ITO表面进行抛光，能够避免采用高速旋转的抛光板引起的过渡磨损并导致PIN HOLE的现象。

技术领域

本发明涉及基板表面处理技术领域，具体涉及一种基板的抛光装置。

背景技术

OLED显示技术具有自发光的特性，采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板，当有电流通过时，这些有机材料就会发光，OLED显示屏幕可视角度大并且节省电能，近年来该显示设备已经得到了越来越多的广泛运用。其中OLED的基本结构是由一薄而透明具半导体特性之铟锡氧化物(ITO)，与电力正极相连，再加上另一个金属阴极，包成如三明治的结构。

其中ITO已广泛应用在商业化的显示器面板制造，其具有高透射率、低电阻率及高功函数等优点。一般而言，利用射频溅镀法(RF sputtering)所制造的ITO，易受工艺控制因素不良而导致表面不平整，进而产生表面的尖端物质或突起物。另外高温锻烧及再结晶的过程亦会产生表面突起层。这些不平整层的细粒之间所形成的路径会提供空穴直接射向阴极的机会，而这些错综复杂的路径会使漏电流增加，因此对ITO表面平整度的控制尤为重要。

OLED发光器件对其透明阳极的表面ITO表面的粗糙度有较高的要求，目前业内普遍会对该ITO材料表面进行抛光再处理，以提高粗糙度改善器件良率。现有技术中普遍采用的是类似于抛光玻璃基板的方式(旋转抛光)对阳极表面进行处理。

例如韩国专利文献KR1020060029332A中公开了一种用于OLED的ITO薄膜的抛光装置，其中该OLED的ITO薄膜的抛光装置被用于以提高ITO表面的抛光精度，其包括自旋转控制器、加压控制器、和操作面板。该OLED的ITO薄膜的抛光装置主要包括下压板、抛光垫、具有抛光固定器的台板、气缸、旋转驱动单元，其中旋转驱动单元用于旋转所述下压板，下压板按压所述台板上，抛光溶液供应单元用于提供抛光溶液到所述下压板，自旋控制器用于控制所述旋转驱动单元，所述气缸的加压控制器用于调整所述气缸的运动，旋转控制器用于控制所述旋转驱动单元。

但上述专利文献中的抛光装置主要通过旋转抛光方式对ITO表面进行处理，上述旋转抛光方式存在以下缺点：(1)旋转速度过快，无法有效控制衬底ITO表面的抛光剥离厚度，且由于是采用小面积的抛光板旋转式来回抛光整体基板，因此完整抛光一个基板表面的时间较长、抛光效率低，且基板表面的整体粗糙度难以控制；(2)该抛光装置搭配的抛光板材质较硬，适用于玻璃基板，但用于ITO抛光时，对ITO等陶瓷性质的半导体材质损伤较大，在ITO表面易造成大量的PIN HOLE不良现象，抛光过程可控性差，影响器件发光效率。

发明内容

因此，本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中的抛光效率低、可控性差、已造成产品表面抛光不良的缺陷，从而提供一种操作简单，降低基板表面抛光过渡磨损的基板的抛光装置。

为此，此处依次列出权利要求书记载的全部技术方案；

一种基板的抛光装置，其包括：基座，所述基座支承抛光部，所述基座上设置有放置所述基板的抛光垫；抛光部，其包括与所述基板接触的抛光板，所述抛光板设置于所述基座上且位于所述抛光垫的上方；驱动部，所述驱动部固定在所述基座上，所述驱动部驱动所述抛光部运动；通过所述抛光板的直线往复运动可对置于所述抛光垫内任意尺寸的所述基板进行抛光。

进一步地，所述抛光垫为方形垫，所述抛光板平行于所述抛光垫的一条边设置，且其长度与所述抛光垫的所述边相符，所述抛光板沿与所述边垂直的另一条边进行直线往复运动。