[发明专利]一种自泄压式单模微波反应系统

权利要求书

1.一种自泄压式单模微波反应系统，其特征在于，包括：磁控管、单模腔组件、单模密封盖组件、密封盖滑动组件、试管组件、磁力搅拌组件、自动泄压组件、红外测温组件及单模腔升降组件；

其中，所述单模腔组件包括单模腔体，所述试管组件包括试管和密封所述试管的试管密封盖；所述试管设于所述单模腔体内，所述试管密封盖中心设有中心形变膜；所述磁控管设置在所述单模腔组件上；

所述单模密封盖组件和密封盖滑动组件设置在所述试管组件的上方；

所述磁力搅拌组件、自动泄压组件和所述红外测温组件设置在所述试管组件的下方；

所述单模密封盖组件包括腔体密封盖、位于所述腔体密封盖内部并与所述腔体密封盖结构配合的密封盖内衬；所述腔体密封盖的内腔顶部设有承压面，所述密封盖内衬上具有测压薄膜，所述承压面与所述测压薄膜相接触；

所述测压薄膜上方具有压力传感器，在压力作用下，所述中心形变膜的形变通过所述测压薄膜传递给所述压力传感器；

所述自动泄压组件包括滑动盘、固定在所述滑动盘上的立柱，以及位于所述滑动盘下方并与所述滑动盘下表面接触的泄压弹簧；

所述单模腔升降组件设置于所述单模腔组件的下方外周，所述单模腔升降组件包括下横梁、固定在所述下横梁上的限位柱、弹簧导柱、套在所述弹簧导柱上的预紧弹簧、升降推杆、基板；所述下横梁的上表面与所述泄压弹簧的下表面接触；

所述升降推杆的一端固定在所述基板上作为固定端，另一端与所述下横梁固定；控制系统通过控制所述升降推杆的伸缩，来控制所述单模腔组件的上下运动；所述弹簧导柱一端设置在所述单模腔体底部，另一端穿过所述下横梁上的导柱滑动孔，所述弹簧导柱末端设有防止所述弹簧导柱从所述导柱滑动孔滑出的螺纹孔；

所述下横梁和升降推杆在所述基板的下方构成可升降式门型架。

2.根据权利要求1所述的反应系统，其特征在于，所述限位柱位于所述升降推杆的下方。

3.根据权利要求1所述的反应系统，其特征在于，所述密封盖滑动组件包括上横梁、设置于所述上横梁两端的横梁立柱、滑轨和伸缩推杆；

所述滑轨具有在导轨上滑动的滑块，所述上横梁固定在所述滑块上；

所述导轨固定在所述基板的上表面；

所述伸缩推杆的一端固定在所述基板的上表面，另一端固定在所述滑块上；

其中，所述上横梁和横梁立柱构成可移动式门型构架，所述伸缩推杆通过所述滑轨驱动所述可移动式门型构架。

4.根据权利要求3所述的反应系统，其特征在于，所述腔体密封盖安装在所述上横梁上。

5.根据权利要求3所述的反应系统，其特征在于，所述单模密封盖组件固定在所述滑块上；系统通过控制所述伸缩推杆的伸缩，带动所述滑块及所述单模密封盖组件一起相对所述基板做来回移动。

6.根据权利要求3-5任一所述的反应系统，其特征在于，所述伸缩推杆使用气缸或者电动推杆。

7.根据权利要求3-5任一所述的反应系统，其特征在于，所述基板中间设有供所述单模腔组件的放样管穿过的通孔，所述放样管从所述基板的下方上升到上方后与固定在所述基板上方的密封盖组件配合。

8.根据权利要求1所述的反应系统，其特征在于，所述单模腔体设有安装磁力搅拌装置的安装座，所述安装座具有供立柱通过并自由滑动的立柱通孔。

9.根据权利要求8所述的反应系统，其特征在于，所述安装座底部设有抑流管，所述抑流管可穿过所述下横梁的中心孔并在所述中心孔内自由上下运动，所述抑流管内孔中安装有所述红外测温组件。

10.根据权利要求1所述的反应系统，其特征在于，所述试管组件设有放置所述试管的试管底座及与所述试管底座配合的试管底座加强套；所述试管顶部设有便于试管移动的法兰边。