[发明专利]一种适用于光学陶瓷的冷等静压方法和光学陶瓷的制备方法有效
| 申请号： | 201710073673.3 | 申请日： | 2017-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN106799783B | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 林少腾;吴起白;张海燕;谢忠祥;张丽庆 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | B28B3/00 | 分类号： | B28B3/00;C04B35/44;C04B35/505;C04B35/622 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 510062 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 光学 陶瓷 静压 方法 制备 | ||
1.一种适用于光学陶瓷的冷等静压方法，包括以下步骤：
a)将干压成型后的若干光学陶瓷圆柱体状素胚堆叠成一个圆柱体，并且每两个圆柱体状素胚之间用圆形称量纸隔开；
b)将步骤a)堆叠成的圆柱体用保鲜膜包裹至少2层；
c)将步骤b)包裹好的圆柱体放入真空袋中抽真空，然后冷等静压，经卸压得到冷等静压后的光学陶瓷素胚。
2.根据权利要求1所述的适用于光学陶瓷的冷等静压方法，其特征在于，所述若干光学陶瓷圆柱体状素胚的个数为10～20个；每个圆柱体状素胚的高度为10mm～30mm。
3.根据权利要求1所述的适用于光学陶瓷的冷等静压方法，其特征在于，所述圆形称量纸的直径大于等于圆柱体的直径。
4.根据权利要求1所述的适用于光学陶瓷的冷等静压方法，其特征在于，所述步骤b)将步骤a)堆叠成的圆柱体用保鲜膜包裹3～4层。
5.根据权利要求1所述的适用于光学陶瓷的冷等静压方法，其特征在于，所述步骤c)冷等静压的压力为200MPa～250MPa，时间为3分钟～5分钟。
6.根据权利要求1所述的适用于光学陶瓷的冷等静压方法，其特征在于，所述步骤c)卸压的速率为20MPa/min～30MPa/min。
7.根据权利要求1～6任一项所述的适用于光学陶瓷的冷等静压方法，其特征在于，所述干压成型后的若干光学陶瓷圆柱体状素胚按照以下方法获得：
将前驱体粉末依次经过球磨、过筛和煅烧，然后干压成型，得到若干光学陶瓷圆柱体状素胚。
8.根据权利要求7所述的适用于光学陶瓷的冷等静压方法，其特征在于，所述干压成型的压力为20MPa～50MPa，时间为3分钟～5分钟。
9.根据权利要求1～6任一项所述的适用于光学陶瓷的冷等静压方法，其特征在于，所述光学陶瓷圆柱体状素胚为掺稀土钇铝石榴石素胚、GaF2素胚或Lu2O3素胚。
10.一种光学陶瓷的制备方法，包括以下步骤：
a)将干压成型后的若干光学陶瓷圆柱体状素胚堆叠成一个圆柱体，并且每两个圆柱体状素胚之间用圆形称量纸隔开；
b)将步骤a)堆叠成的圆柱体用保鲜膜包裹至少2层；
c)将步骤b)包裹好的圆柱体放入真空袋中抽真空，然后冷等静压，经卸压得到冷等静压后的光学陶瓷素胚；
d)将步骤c)冷等静压后的光学陶瓷素胚依次进行煅烧、真空烧结、退火和抛光，得到光学陶瓷。
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