[发明专利]一种氟化钙晶体表面清洗方法

权利要求书

1.一种氟化钙晶体表面清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)利用CeO₂抛光颗粒在沥青盘上对氟化钙晶体进行抛光，抛光时，转速不超过15转/分钟，表面压强不超过200千帕，氟化钙晶体表面粗糙度<0.5nm时结束抛光；

2)抛光结束后的15分钟内，对氟化钙晶体进行多频超声-兆声复合频率清洗；

3)利用磁流变技术对氟化钙晶体进行磁流变刻蚀；

4)对刻蚀后的氟化钙晶体进行多频超声-兆声复合频率清洗；

5)利用SiO₂胶体在聚氨酯抛光垫上对氟化钙晶体进行低速低压力的二次抛光，氟化钙晶体表面粗糙度<0.2nm时结束抛光，所述SiO₂胶体的粒径小于CeO₂抛光颗粒的粒径；

6)对二次抛光后的氟化钙晶体进行多频超声-兆声复合频率清洗。

2.根据权利要求1所述的氟化钙晶体表面清洗方法，其特征在于，所述CeO₂抛光颗粒为经三次水选过滤的CeO₂颗粒，且CeO₂颗粒的粒径为0.3-0.5μm。

3.根据权利要求1所述的氟化钙晶体表面清洗方法，其特征在于，所述多频超声-兆声复合频率清洗具体为：

利用1:1混合的无水酒精和纯度大于98％的丙酮溶液在30℃下清洗3-5分钟，同时加载超声波和兆声波的多频循环振动。

4.根据权利要求1或3所述的氟化钙晶体表面清洗方法，其特征在于，所述多频超声-兆声复合频率清洗中，超声波频率为40/80/140/220/270kHz的5频复合频率超声波，兆声波频率为0.47/1.0/1.3MHz的3频复合频率兆声波，超声波各个频率的持续时间为15秒，兆声波各个频率的持续时间为20秒，各频率在低功率下交替循环。

5.根据权利要求1所述的氟化钙晶体表面清洗方法，其特征在于，所述磁流变刻蚀的刻蚀时间为3-20分钟，刻蚀深度为1-3μm。

6.根据权利要求1所述的氟化钙晶体表面清洗方法，其特征在于，所述SiO₂胶体的粒径为10-50nm。