[发明专利]一种连续生产石墨烯、碳纳米管复合材料的智能工作站系统在审
申请号: | 201710070457.3 | 申请日: | 2017-02-09 |
公开(公告)号: | CN106698411A | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 雷立猛;林少鹏 | 申请(专利权)人: | 广东派勒智能纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C01B32/194 | 分类号: | C01B32/194;C01B32/168;B02C21/00 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 连续生产 石墨 纳米 复合材料 智能 工作站 系统 | ||
技术领域
本发明属于纳米材料制备设备领域,尤其涉及一种连续生产石墨烯、碳纳米管复合材料的智能工作站系统。
背景技术
英国曼彻斯特大学的安德烈·K·海姆 (Andre K.Geim) 等在 2004 年制备出石墨烯材料,由于其独特的结构和光电性质受到了人们广泛的重视。单层石墨由于其大的比表面积、优良的导电、导热性能和低的热膨胀系数而被认为是理想的材料,尤其是其高导电性质,大的比表面性质和其单分子层二维的纳米尺度的结构性质,可在超级电容器和锂离子电池中用作电极材料。碳纳米管作为一维纳米材料,重量轻,六边形结构连接完美,具有很多优异的力学、电学和化学性能。石墨烯 (Graphene) 是一种由碳原子构成的单层片状结构的新材料,是一种由碳原子以 sp2 杂化轨道组成六角型呈蜂巢晶格的平面薄膜,只有一个碳原子厚度的二维材料。通常情况下5层以内均可称为石墨烯。石墨烯是已知的世上最薄、最坚硬的纳米材料,它几乎是完全透明的,只吸收2.3%的光,导热系数高达 5300W/m·K,高于碳纳米管和金刚石,且常温下其电子迁移率超过 15000cm2/V·s,比纳米碳管或硅晶体高,而电阻率只约 10-6Ω·cm,比铜或银低,其成为世上电阻率最小的材料。目前生产石墨烯、碳纳米管复合材料采取的方式仍是间歇批次式的生产模式,均无法实现连续生产,无法达到工业化规模。
发明内容
针对上述技术问题,本发明的目的在于提供一种可获得粒度均匀且分散均匀的石墨烯、碳纳米管复合材料的在线连续批量生产的智能工作站系统。
本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为:一种连续生产石墨烯、碳纳米管复合材料的智能工作站系统,包括配置石墨烯和碳纳米管原料的配料罐,该配料罐内的物料混合后输送至砂磨机进行研磨,研磨后的物料输送至中间罐,再将中间罐内的物料输送至离心机进行离心脱水,然后收集离心脱水后的物料。
作为优选,所述配料罐内的原料混合后先输送至循环罐,然后将循环罐内的原料输送至所述砂磨机进行研磨,研磨后的物料返回至所述循环罐,再将循环罐内研磨后的物料输送至所述中间罐。
作为优选,研磨后的物料返回至所述循环罐后,将该物料输送至所述砂磨机再次进行研磨,然后将再次研磨后的物料返回至所述循环罐,如此循环,再将循环罐内研磨后的物料输送至所述中间罐。
作为优选,所述配料罐内的原料混合后先输送至粗磨循环罐,再将粗磨循环罐内的原料输送至粗磨砂磨机进行粗磨,粗磨后的物料返回至粗磨循环罐。
作为优选,所述配料罐内的原料混合后分别输送至数个粗磨循环罐,每一粗磨循环罐内的原料输送至对应的一台粗磨砂磨机进行粗磨。
作为优选,每一粗磨循环罐内粗磨后的物料先输送至粗磨中间罐,再将粗磨中间罐内的物料输送粗磨离心机进行离心脱水。
作为优选,将上述粗磨离心脱水后的物料采用离心中转罐进行收集,然后将离心中转罐内的物料进行精磨,精磨后的物料输送至精磨中间罐,再将精磨中间罐内的物料输送至精磨离心机进行离心脱水,最后收集精磨离心脱水后的物料。
作为优选,所述离心中转罐内的物料先输送至精磨循环罐,再将精磨循环罐内的物料输送至精磨砂磨机进行精磨,精磨后的物料返回至精磨循环罐,再将精磨循环罐内物料输送至所述精磨中间罐;或者当精磨后的物料返回至精磨循环罐后,将精磨后的物料输送至精磨砂磨机进行再次精磨,再次精磨后的物料返回至精磨循环罐,如此循环,再将精磨循环罐内物料输送至所述精磨中间罐。
作为优选,所述离心中转罐内的物料分别输送至数个精磨循环罐,每一精磨循环罐内的物料输送至对应的一台精磨砂磨机进行精磨。
作为优选,每一精磨循环罐内精磨后的物料输送精磨中间罐,再将精磨中间罐内的物料采用精磨离心机进行精磨离心脱水处理,然后将该精磨离心机滤饼箱内的物料采用干燥机进行干燥,最后收集干燥后的产品。
从以上技术方案可知,本发明可将原料通过多台粗磨砂磨机同时粗磨,然后对粗磨后的物料进行脱水,再经多台精磨砂磨机同时精磨,最后对精磨的物料再次脱水、干燥,可使整个工作站系统连续工作,持续收集产品,实现了在线连续批量工业化生产。
附图说明
图1是本发明一种优选方式的结构示意图。
具体实施方式
下面结合图1详细介绍本发明,在此本发明的示意性实施例以及说明用来解释本发明,但并不作为对本发明的限定。
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