[发明专利]一种建筑装饰用抛光型除霉镜面功能腻子在审
申请号: | 201710068716.9 | 申请日: | 2017-02-08 |
公开(公告)号: | CN106590136A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 林清华 | 申请(专利权)人: | 南安格泰建材有限公司 |
主分类号: | C09D5/34 | 分类号: | C09D5/34 |
代理公司: | 北京天奇智新知识产权代理有限公司11340 | 代理人: | 曾捷 |
地址: | 362300 福建省泉*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 建筑 装饰 抛光 霉镜面 功能 腻子 | ||
技术领域
本发明属于建筑材料技术领域,特别涉及一种建筑装饰用抛光型除霉镜面功能腻子,建筑装饰用抛光型除霉镜面功能腻子是用于建筑物室内装饰装修的功能材料,经过抛光打磨后具有一定的镜面效果,可替代传统腻子、墙纸(乳胶漆)用于室内装饰装修,具有步骤简单、除霉、有镜面效果、VOC零排放等优点。
背景技术
本发明的建筑装饰用抛光型除霉镜面功能腻子是用于建筑美化阶段,是替代装修阶段中的普通常规腻子、装饰阶段的涂料墙纸等材料。传统的腻子粉和涂料墙纸在装饰装修环节中存在如下的关键短板:一方面,现有的传统防霉腻子不具有持续功能化特征,传统防霉腻子是延缓真菌分泌物在腻子上的附着,其施工后容易受防霉剂污染而失去功能,同时有着脱落、掉粉、掉皮、开裂等,从而使得外面粘结的墙纸或涂料层空鼓、开裂,严重影响美观;另一方面,墙纸或涂料等装饰材料,是通过胶黏剂与砂浆层粘贴,胶黏剂含有可挥发性有机物溶剂(VOC),会持续释放到室内的密闭空气中,是室内空气的重要污染源之一。因此,建筑装饰装修市场需求一种具备装饰功效的功能腻子材料,要具备良好的施工性、易打磨、强度高、除霉效果好的腻子材料。
发明内容
为了克服上述现有技术的不足,本发明提供了一种建筑装饰用抛光型除霉镜面功能腻子,本发明的建筑装饰用抛光型除霉镜面功能腻子具备了除霉、镜面的功能,操作简单、强度好、VOC零排放。
本发明的目的是提供一种建筑装饰用抛光型除霉镜面功能腻子,具有4h的初凝时间、3d抗压强度达到3.0MPa、3d粘结强度大于1.2Mpa、3天后即可以进行抛光使具有40~50光泽单位的镜面效果、VOC零排放、最高级的0级除霉。
本发明所采用的技术方案是:
为实现上述发明目的,本发明采用了如下技术方案:
一种建筑装饰用抛光型除霉镜面功能腻子,其特征在于,以重量百分比计,包括如下组分:
甲粉剂组份
硅酸铝 50~60%
氟化钙 0.2%~0.4%
无水硫酸铜 0.1@~0.2%
憎水粉剂 0.05%~0.1%
白水泥 15%~20%
滑石粉 20%~30%
氢氧化钙 2%~4.5%
染色料 0%~2%
乙液料组份
尿素 5%~6%
氢氧化钙 0.5%~1%
三聚氰胺 0.2~0.5%
EVA乳液(固含量50%计) 40%~50%
乙醇 4%~5%
去离子水 40%~50%
发明原理:
上述建筑装饰用抛光型除霉镜面功能腻子是由甲乙组份组成:甲粉剂是以水泥、硅酸铝和添加剂等经均化的粉料混合物;乙液料是EVA乳液和化合物的液化物。本发明利用了下述技术:
将建筑装饰用抛光型除霉镜面功能腻子分为甲乙双组份非接触反应型功能原料,使用了原料粉/液分类控制技术、非反应型除霉抑霉技术、抛光型腻子镜面化技术。甲粉剂组份通过高强度的水泥和硅酸铝为粉体主材料,准确选用了氟化钙、无水硫酸铜等无机添加剂,除霉抑霉持续时间长;乙液料组份预先通过乳化反应后再与甲组份的粉体交互反应固化,使得实现超强本体强度和粘结强度;提出了抛光型腻子镜面化技术,缩短工期。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1. 对抛光型除霉镜面功能腻子的原料进行了粉/液分类。提出了功能腻子专用拌合液组份,将两类反应进度不同的原料通过工厂预反应的工艺合并在一起使用,实现标准化的凝结和强度指标,也解决了传统腻子施工是粉体现场加水搅拌操作误差大、污染损耗大的问题。
2. 非反应型除霉抑霉技术,依靠低活性的无机重金属盐实现了破坏霉菌存活环节,根源杜绝真菌产生的有机酸梅和分泌物的存在,通过改性的EVA碱乳液为搅拌载体,反应后超低温成膜贯穿于整个腻子内部,实现除霉抑霉持续时间长, 即30年以上的除霉抑霉。
3. 抛光型腻子镜面化技术,通过超高早强的抗压强度和粘结强度,使得3天即可以进行抛光打磨,镜面光泽度区间为40~60光泽单位,使得甲乙组份能更充分的接触固化,实现了抛光型腻子镜面化技术。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合实施案例对本发明作进一步地技术参数描述,本发明的三种实施方式见表1,总质量的质量分数计。
表1
需要指出的是,以上所述者仅为用以解释本发明之较佳实施例,并非企图据以对本发明作任何形式上之限制,是以,凡有在相同之发明精神下所作有关本发明之任何修饰或变更,皆仍应包括在本发明意图保护之范畴。
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