[发明专利]触控面板及其触控显示装置

说明书

本发明涉及一种触控面板及其触控显示装置，触控面板包括：一基材、一导电层以及一黑化层。导电层设置于基材上。黑化层设置于导电层上，且包括一种非金属元素；其中，黑化层的厚度为T，黑化层在距离导电层1/12T的位置具有第一浓度的非金属元素，黑化层在距离导电层7/12T的位置具有第二浓度的非金属元素，且第一浓度小于第二浓度。

技术领域

本发明涉及一种触控面板及其应用，且特别是涉及一种具有多层结构的触控电极及其应用。

背景技术

薄膜导电结构具有导电性与透光性，可运用来作为触控面板的感应层(sensorlayer)。现有的触控面板的感应层一般是通过沉积制作工艺，例如物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)，将导电材料沉积在基材上，再通过图案化来形成感应电极。而为了符合低阻值的需求，具有金属网格(metal mesh)结构的感应电极为一种受到瞩目的解决方案。

发明内容

本发明的一个实施例是提供一种触控面板，此触控电极包括：一基材、一导电层以及一黑化层。导电层设置于基材上。黑化层设置于导电层上，且包括一种非金属元素，其中黑化层的厚度为T，黑化层在距离导电层1/12T的位置非金属元素具有第一浓度，黑化层在距离导电层7/12T的位置非金属元素具有第二浓度，且第一浓度小于第二浓度。

本发明的另一个实施例是提供一种触控显示装置，此触控显示装置包括：一触控面板和一显示介质。触控面板具有一触控电极位于显示介质的一侧。且触控电极包括：一基材、一导电层以及一黑化层。导电层设置于基材上。黑化层设置于导电层上，且包括一种非金属元素；其中，黑化层的厚度为T，黑化层在距离导电层1/12T的位置非金属元素具有第一浓度，黑化层在距离导电层7/12T的位置非金属元素具有第二浓度，且第一浓度小于第二浓度。

附图说明

图1A至图1D为本发明的一实施例所绘示的一系列用来形成触控面板的制作工艺结构剖面示意图；

图2为本发明的另一实施例所绘示的触控面板的结构剖面示意图；

图3为本发明的再一实施例所绘示的触控面板的结构剖面示意图；

图4为本发明的又一实施例所绘示的触控面板的结构剖面示意图；

图5为本发明的又另一实施例所绘示的触控面板的结构剖面示意图；

图6A为采用本发明实施例所制备的触控面板的片电阻变化曲线图；

图6B为采用传统连续金属氮化层镀膜制作工艺所制备的触控面板的片电阻变化曲线图；

图7为应用图3的触控面板所建构的显示装置的结构剖视图；以及

图8A至图8C为本发明不同实施例绘示黑化层中非金属元素的浓度梯度分布样态。

符号说明

100：触控面板 101：基材

101a：基材下表面 101b：基材上表面

102：导电层 102a：导电层的上表面

103：黑化层 103a：低含氮部分

103b：高含氮部分 103c：黑化层的上表面

104：光学匹配层

200：触控面板 201：开口

300：触控面板 305：阻障层

400：触控面板 405：阻障层